[發明專利]記錄策略決定方法、光盤記錄方法、光盤及光盤裝置

有效

• 申請號: 200710139705.1
• 申請日: 2007-07-27
• 公開（公告）號: CN101114467A
• 公開（公告）日: 2008-01-30
• 發明（設計）人: 藤田真治;高橋正彥
• 申請（專利權）人: 株式會社日立制作所
• 主分類號: G11B7/0045
• 分類號: G11B7/0045
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司
• 代理人: 龍淳

1.一種記錄策略決定方法，是在將激光照射在光盤上并記錄數據時的記錄策略決定方法，其特征在于，包括：

第1步驟，決定在將數據記錄在所述光盤上時的數據的調制度條件；

第2步驟，決定滿足所述調制度條件的第1策略；以及

第3步驟，在所述第1策略附近，測定記錄品質，并決定第2策略。

2.如權利要求1所述的記錄策略決定方法，其特征在于：

在所述第1步驟中，將規定長度的標志及空白的重復數據記錄在所述光盤上，

再現該數據，測定所述數據的信號電平和串擾電平及調制度，根據該測定結果而決定所述調制度條件。

3.如權利要求2所述的記錄策略決定方法，其特征在于：

在所述第2步驟中，決定有關最短標志記錄的記錄策略的參數，并將數據記錄在所述光盤中，

再現該數據，測定不對稱及標志邊緣位置或標志長度，根據該測定結果而決定所述第1策略的各參數。

4.如權利要求3所述的記錄策略決定方法，其特征在于：

在所述第2步驟中，由多個基準決定有關最短標志記錄的記錄策略的參數，

在所述第3步驟中，在所述多個基準的各基準上測定記錄品質，根據該測定結果而決定第2策略。

5.一種光盤記錄方法，是在將激光照射在光盤上并記錄數據時的光盤記錄方法，其特征在于，包括：

第1步驟，決定在將數據記錄在所述光盤上時的數據的調制度條件；

第2步驟，決定滿足所述調制度條件的第1策略；以及

第3步驟，在所述第1策略附近，測定記錄品質，并決定第2策略，

使用由所述第1到第3步驟決定的所述記錄策略。

6.一種光盤，是將推薦記錄策略的信息預先記錄在規定的控制數據區域上的光盤，其特征在于，所述推薦記錄策略使用如下步驟來決定：

第1步驟，決定在將數據記錄在所述光盤上時的數據的調制度條件；

第2步驟，決定滿足所述調制度條件的第1策略；以及

第3步驟，在所述第1策略附近，測定記錄品質，并決定第2策略。

7.一種光盤裝置，是對將推薦記錄策略的信息預先記錄在規定的控制數據區域上的光盤，記錄或再現信息的光盤裝置，其特征在于，所述推薦記錄策略使用如下步驟來決定：

第1步驟，決定在將數據記錄在所述光盤上時的數據的調制度條件；

第2步驟，決定滿足所述調制度條件的第1策略；以及

第3步驟，在所述第1策略附近，測定記錄品質，并決定第2策略。

8.如權利要求2所述的記錄策略決定方法，其特征在于：

在所述第2步驟中，由多個基準決定有關最短標志記錄的記錄策略的參數，

在所述第3步驟中，在所述多個基準的各基準上測定記錄品質，根據該測定結果而決定第2策略。

9.如權利要求1所述的記錄策略決定方法，其特征在于：

在所述第2步驟中，決定有關最短標志記錄的記錄策略的參數，并將數據記錄在所述光盤中，

再現該數據，測定不對稱及標志邊緣位置或標志長度，根據該測定結果而決定所述第1策略的各參數。

10.如權利要求9所述的記錄策略決定方法，其特征在于：

在所述第2步驟中，由多個基準決定有關最短標志記錄的記錄策略的參數，

在所述第3步驟中，在所述多個基準的各基準上測定記錄品質，根據該測定結果而決定第2策略。

11.如權利要求1所述的記錄策略決定方法，其特征在于：

在所述第2步驟中，由多個基準決定有關最短標志記錄的記錄策略的參數，

在所述第3步驟中，在所述多個基準的各基準上測定記錄品質，根據該測定結果而決定第2策略。