[發(fā)明專利]感光性組合物及其應(yīng)用無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710136653.2 | 申請(qǐng)日: | 2007-07-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101118382A | 公開(公告)日: | 2008-02-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 中村秀之;宮城島規(guī);高田勝之;宮宅一仁 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 富士膠片株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G03F7/004 | 分類號(hào): | G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 朱丹 |
| 地址: | 日本國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 感光性 組合 及其 應(yīng)用 | ||
1.一種感光性組合物,其含有:
金屬粒子和具有金屬的粒子的至少一種、沸點(diǎn)為150℃以上300℃以下且在20℃下對(duì)水的溶解度為無(wú)限大的溶劑的至少一種、和樹脂及其前體的至少一種。
2.如權(quán)利要求1所述的感光性組合物,其中,
所述溶劑為乳酸乙酯。
3.如權(quán)利要求1所述的感光性組合物,其中,
所述金屬粒子和具有金屬的粒子的至少一種為具有銀錫合金部的粒子。
4.如權(quán)利要求1所述的感光性組合物,其中,
所述金屬粒子或具有金屬的粒子的數(shù)均粒徑為0.1μm以下。
5.如權(quán)利要求3所述的感光性組合物,其中,
所述金屬粒子或具有金屬的粒子的數(shù)均粒徑為0.1μm以下。
6.如權(quán)利要求1所述的感光性組合物,其中,
所述樹脂是側(cè)鏈具有羧酸基的聚合物。
7.如權(quán)利要求1所述的感光性組合物,其中,
還具有光聚合引發(fā)劑或光聚合引發(fā)助劑。
8.一種感光性轉(zhuǎn)印材料,其在臨時(shí)支撐體上具有使用權(quán)利要求1~7的任一項(xiàng)所述的感光性組合物形成的感光性組合物層。
9.一種顯示裝置用遮光膜的形成方法,其至少具有在基板上涂布權(quán)利要求1~7的任一項(xiàng)所述的感光性組合物的工序。
10.一種顯示裝置用遮光膜的形成方法,其至少具有在基板上轉(zhuǎn)印權(quán)利要求8所述的感光性轉(zhuǎn)印材料的感光性組合物層的工序。
11.一種顯示裝置用遮光膜,其使用權(quán)利要求1~7的任一項(xiàng)所述的感光性組合物形成。
12.如權(quán)利要求11所述的顯示裝置用遮光膜,其中,
用于黑色矩陣的形成。
13.一種帶遮光膜的基板,其具備:
基板、設(shè)置在所述基板上的權(quán)利要求11所述的顯示裝置用遮光膜。
14.如權(quán)利要求13所述的帶遮光膜的基板,其用于制作濾色片。
15.一種顯示裝置,其具備權(quán)利要求13或14所述的帶遮光膜的基板。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
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