[發明專利]呼吸系統加濕器

有效

• 申請號: 200710136616.1
• 申請日: 1998-06-17
• 公開（公告）號: CN101318049A
• 公開（公告）日: 2008-12-10
• 發明（設計）人: L·G·格拉登;S·W·麥克菲;P·J·西根斯;P·J·萊昂納德
• 申請（專利權）人: 菲舍爾和佩克爾有限公司
• 主分類號: A61M16/16
• 分類號: A61M16/16;A61M16/10
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司
• 代理人: 蔡洪貴

1.一種用于對氣流加濕的加濕裝置，所述氣流將被提供給病人或其他需要所述氣流的人，所述加濕裝置包括：

可容納一定量水的加濕室，它有一個入口和一個出口，以便使上述氣流通過所述的加濕室，

與上述加濕室相鄰的加熱裝置，它用于向上述加濕室中的水供熱，以便為通過上述加濕室的所述氣流提供水蒸汽，

加熱裝置功率利用傳感裝置，可監測上述加熱裝置所使用的功率，

加熱裝置溫度傳感裝置，可測定上述加熱裝置的溫度，

與上述加濕室的出口相連的氣體運輸通路裝置，它用來向上述病人或其他需要所述氣流的人輸送上述氣流，上述氣體運輸通路裝置有一病人端，它遠離與上述加濕室出口相連的端點，

警報裝置，給它提供能量后，可用于在一段預定警報時間后提供警告信號，以及

儲存有一種程序的控制裝置，此程序可使控制裝置：

i)通過從上述加熱裝置溫度傳感裝置測定的加熱裝置溫度中減去由上述氣流溫度傳感裝置測定的氣流溫度，來確定溫度差，

ii)由上述加熱裝置功率利用傳感裝置來確定加熱裝置的功率需要量，

iii)由上述功率需要量除以上述溫度差，計算出導熱系數，

iv)如果上述計算的導熱系數小于預定最小可允許的導熱系數，則啟動上述警報裝置。

2.根據權利要求1所述的加濕裝置，其中還包括：用于測定上述氣流的流速的氣流探測器裝置；和儲存裝置，它儲存有許多與氣流的流速相關的上述預定最小可允許的導熱系數值；以及所述控制裝置也存有程序以進行以下步驟：

iiia)通過上述氣流探測器裝置確定氣體流速，并從上述儲存裝置獲得與所確定的氣體流速相關的預定最小可允許的導熱系數值。

3.根據權利要求1或2所述的加濕裝置，其中所述的控制裝置還存有程序以進行下列步驟：

v)等候一段預定的時間，然后重復步驟(i)-(v)。

4.根據權利要求2所述的加濕裝置，其中所述的氣流探測器裝置包括：

用于在上述氣流中定位的傳感器外殼，所述的傳感器外殼縱向軸線基本上與上述加濕氣流垂直，并有一個傳感末端，

傳感裝置嵌入在位于上述傳感末端或其附近的傳感器外殼中，以及

從上述傳感器外殼橫向伸出的至少一個凸起翼狀裝置，所述至少一個凸起翼狀裝置提供了能使液體冷凝物從上述的傳感器外殼的傳感末端分散出去的表面。

5.根據權利要求4所述的加濕裝置，其中所述的氣流探測器裝置包括兩個上述凸起翼狀裝置。

6.根據權利要求5所述的加濕裝置，其中所述的兩個凸起翼狀裝置相對地位于上述傳感器外殼的周圍。

7.根據權利要求4或5所述的加濕裝置，其中每個所述凸起翼狀裝置都與上述氣流平行排列。

8.根據權利要求4或5所述的加濕裝置，其中液體冷凝物是沿上述的傳感器外殼和上述至少一個凸起翼狀裝置的交線分散，沿所述的交線有一個低表面張力的局部區域。

9.根據權利要求4或5所述的加濕裝置，其中所述的傳感探測器裝置包括一個溫度傳感器外殼和一個流速傳感器外殼。

10.根據權利要求9所述的加濕裝置，其中所述溫度傳感器外殼和所述流速傳感器外殼的傳感裝置中每個均包括溫度依賴性電阻。

11.根據權利要求9所述的加濕裝置，其中所述的流速傳感器外殼的傳感裝置偶爾被加熱至超出上述氣流溫度的預定差值溫度，上述流速傳感器外殼的傳感裝置維持上述的預定差值溫度所需要的功率提供了上述氣流流速的一個指征。

12.根據權利要求9所述的加濕裝置，其中所述的流速傳感器外殼的傳感裝置暴露在流速傳感器外殼的傳感末端或其附近，而上述溫度傳感器外殼的傳感裝置包封在溫度傳感器外殼的傳感末端或其附近。

13.根據權利要求9所述的加濕裝置，其中所述的溫度傳感器外殼和流速傳感器外殼穿過上述氣流時留有間隔，這樣是為了使上述流速傳感器外殼的傳感裝置所產生的熱量對上述溫度傳感器外殼的傳感裝置的實際影響最小。

14.根據權利要求9所述的加濕裝置，其中所述的流速傳感器外殼位于上述溫度傳感器外殼的下游，這樣是為了使上述流速傳感器外殼的傳感裝置所產生的熱量對上述溫度傳感器外殼的傳感裝置不產生影響。

15.根據權利要求2所述的加濕裝置，其中所述的氣流在一已知橫斷面積的導管內，至少是在上述氣流探測器裝置鄰近的范圍內，流動，在此范圍內有一個用于接受上述氣流探測器裝置的傳感器入口，所述的傳感器入口有一個固定的定位凹槽，所述的氣流探測器裝置有一個互補的固定定位齒，上述的溫度和流速傳感器外殼相對于氣流的定位由上述定位凹槽和定位齒共同控制。