[發(fā)明專利]低壓真空滲碳設(shè)備無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710135550.4 | 申請(qǐng)日: | 2007-11-13 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101158021A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-04-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 肖文進(jìn) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 吳江市天地人真空爐業(yè)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C8/20 | 分類號(hào): | C23C8/20 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 215200江蘇省吳江市松陵*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 低壓 真空 滲碳 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明為熱處理行業(yè)連續(xù)生產(chǎn)線裝置領(lǐng)域。
背景技術(shù):
目前在傳統(tǒng)氣氛爐中,工件在滲碳?xì)夥障录訜帷?duì)于類似于齒輪頂端的齒輪頂部位的小區(qū)域加熱迅速并更快達(dá)到奧氏體溫度,所以此區(qū)域比齒根部區(qū)域更快吸碳,這導(dǎo)致不均勻的滲層分布。而且爐體生產(chǎn)比較單一。
技術(shù)內(nèi)容:
本發(fā)明低壓真空設(shè)備的設(shè)計(jì)非常人性化,爐體構(gòu)造緊湊,配以運(yùn)行快速和平穩(wěn)的物料自動(dòng)傳送系統(tǒng),精確的滲碳控制系統(tǒng)確保工件滲碳質(zhì)量,電控系統(tǒng)具備了人機(jī)對(duì)話功能,更重要的是該設(shè)備的充分的選擇,能做到使用戶投資少,設(shè)備閑置率低。
具體實(shí)施方法:
該裝置由①數(shù)臺(tái)周期式真空滲碳爐;②數(shù)臺(tái)周期式真空回火爐(按真空爐數(shù)量來(lái)配置);③數(shù)臺(tái)周期式真空清洗機(jī);④一套附帶軌道、具備四個(gè)方位運(yùn)動(dòng)的物料自動(dòng)識(shí)別機(jī)器裝置系統(tǒng);⑤真空系統(tǒng);⑥滲碳?xì)夥展┙o和控制系統(tǒng);⑦水冷裝置⑧氣冷裝置⑨供電和電氣控制系統(tǒng);⑩總體監(jiān)控操作室。
該生產(chǎn)線上的爐子裝有自動(dòng)開(kāi)啟推拉門,由外部物料自動(dòng)運(yùn)輸系統(tǒng)自動(dòng)識(shí)別各個(gè)周期式真空滲碳爐位置,以完成不同材質(zhì)、不同尺寸、不同要求的工件在線批量熱處理,實(shí)現(xiàn)裝卸料、工藝執(zhí)行自動(dòng)運(yùn)行。
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C8-00 金屬材料表面中僅滲入非金屬元素的固滲
C23C8-02 .被覆材料的預(yù)處理
C23C8-04 .局部表面的處理,例如使用掩蔽物的
C23C8-06 .使用氣體的
C23C8-40 .使用液體,例如鹽浴、懸浮液的
C23C8-60 .使用固體,例如粉末、膏劑的
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





