[發(fā)明專利]一種實(shí)現(xiàn)低照度大視場光譜測量的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710134979.1
• 申請日: 2007-10-31
• 公開（公告）號: CN101158601A
• 公開（公告）日: 2008-04-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐毅剛
• 申請（專利權(quán)）人: 無錫市星迪儀器有限公司
• 主分類號: G01J3/26
• 分類號: G01J3/26;G01J3/28
• 代理公司: 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 曹祖良

1.一種實(shí)現(xiàn)低照度大視場光譜測量的方法，包括光譜采集物鏡(1)與光譜儀入射窗(2)，其特征是：在光譜采集物鏡(1)與光譜儀入射窗(2)之間有積分棒(6)，該積分棒(6)指向光譜采集物鏡(1)的一端為積分棒入射窗(5)，積分棒(6)指向光譜儀入射窗(2)的一端為積分棒出射窗(7)；光線經(jīng)過光譜采集物鏡(1)聚焦后通過積分棒入射窗(5)進(jìn)入積分棒(6)，再通過積分棒出射窗(7)進(jìn)入光譜儀入射窗(2)。

2.如權(quán)利要求1所述實(shí)現(xiàn)低照度大視場光譜測量的方法，其特征是：積分棒出射窗(7)的截面尺寸為φ’，光譜入射窗(2)的截面尺寸為φ，積分棒出射窗(7)的截面尺寸φ’大于光譜入射窗(2)的截面尺寸φ。

3.如權(quán)利要求1所述實(shí)現(xiàn)低照度大視場光譜測量的方法，其特征是：在積分棒(6)的表面有反射膜層。