[發(fā)明專利]磁瓦研磨設(shè)備

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710134441.0
• 申請日: 2007-10-19
• 公開（公告）號: CN101138835A
• 公開（公告）日: 2008-03-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 呂景文
• 申請（專利權(quán)）人: 呂景文
• 主分類號: B24B19/26
• 分類號: B24B19/26
• 代理公司: 常州市維益專利事務(wù)所
• 代理人: 王凌霄

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種專用的研磨設(shè)備，尤其是一種磁瓦研磨設(shè)備。

背景技術(shù)

我國是世界上稀土礦藏最多的國家，占世界上已探明的稀土礦藏的70％以上，原來我國一直是以出口礦石為主，近年來我國為了保護(hù)國有資源，最大限度的合理開發(fā)利用稀土礦藏，已經(jīng)明文規(guī)定控制稀土礦石的出口，并以加工成品出口為主，鼓勵企業(yè)將稀土材料加工成品出口，這樣，我國的稀土材料加工行業(yè)呈現(xiàn)了前所未有的蓬勃發(fā)展的局面。

磁瓦是應(yīng)用于電機(jī)上的具有磁性的瓦片，是由稀土材料壓鑄并經(jīng)研磨制成，經(jīng)充磁形成磁瓦，磁瓦需研磨的分別有十個表面，現(xiàn)在我國的磁瓦研磨一般是手工操作，靠手工操作在砂輪上研磨磁瓦的各處表面；也有部分廠家使用了半自動化的設(shè)備在生產(chǎn)，一次完成磁瓦的幾處表面的研磨，這些加工方法存在產(chǎn)品合格率低、一致性差、環(huán)境污染、工人勞動強(qiáng)度大和能源浪費等問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是：提供一種能將磁瓦的所要求加工研磨的十個面在一臺設(shè)備上一次加工完成，實現(xiàn)機(jī)器化作業(yè)生產(chǎn)，解決目前手工加工或半自動加工所造成的產(chǎn)品合格率低、一致性差、環(huán)境污染、工人勞動強(qiáng)度大和能源浪費等缺陷。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：一種磁瓦研磨設(shè)備，用于對磁瓦的內(nèi)凹面、外凸面、兩側(cè)面和兩端面的研磨，具有機(jī)體，機(jī)體上設(shè)置有與磁瓦軸線同向的允許磁瓦在上部滑動的導(dǎo)軌，在導(dǎo)軌側(cè)邊的機(jī)體上分別設(shè)置有內(nèi)凹面磨頭、外凸面磨頭、兩側(cè)面磨頭和兩端面磨頭，每個磨頭上都安裝有與所需研磨表面形狀相吻合的定型砂輪；在所述的機(jī)體上還設(shè)置有驅(qū)動磁瓦在導(dǎo)軌上滑動的送進(jìn)裝置。

具體的說：所述的導(dǎo)軌為兩根并排設(shè)置的導(dǎo)桿，所述的磁瓦在導(dǎo)桿上的狀態(tài)為內(nèi)凹面朝上，所述的驅(qū)動磁瓦在導(dǎo)軌上滑動的裝置為由電機(jī)驅(qū)動的上下設(shè)置的壓輪。

進(jìn)一步的，所述的兩端面磨頭設(shè)置在最終的加工工位處，在兩端面磨頭與前道磨頭之間的位置處設(shè)置有將磁瓦從內(nèi)凹面朝上的軸線水平狀態(tài)撥成內(nèi)凹面朝向側(cè)面的軸線垂直狀態(tài)并將磁瓦推向兩端面磨頭的撥推裝置。

為了延長定型砂輪的使用壽命和提高加工精度，所述的內(nèi)凹面磨頭、外凸面磨頭、兩側(cè)面磨頭和兩端面磨頭上還分別設(shè)置有冷卻裝置。

具體的說：所述的冷卻裝置為具有噴頭、接水槽、循環(huán)水箱和水泵的裝置。

為了防止研磨后的粉塵、污水的飛揚(yáng)和飛濺，所述的機(jī)體上還設(shè)置有罩殼。

本發(fā)明的有益效果是，本發(fā)明提供了一種能將磁瓦的所要求加工研磨的十個面在一臺設(shè)備上一次加工完成，實現(xiàn)了機(jī)器化作業(yè)生產(chǎn)，解決了目前手工加工或半自動加工所造成的產(chǎn)品合格率低、一致性差、環(huán)境污染、工人勞動強(qiáng)度大和能源浪費等缺陷。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進(jìn)一步說明。

圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是圖1的A-A剖視圖。

圖3是圖1的B向視圖。

圖中1.磁瓦，2.導(dǎo)軌，3.內(nèi)凹面磨頭，4.外凸面磨頭，5.兩側(cè)面磨頭6.兩端面磨頭，7.送進(jìn)裝置，8.撥推裝置。

具體實施方式

如圖1至3所示的本發(fā)明的磁瓦研磨設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖，用于對磁瓦1的內(nèi)凹面、外凸面、兩側(cè)面和兩端面的研磨，具有機(jī)體，機(jī)體上設(shè)置有與磁瓦軸線同向的允許磁瓦在上部滑動的導(dǎo)軌2，在導(dǎo)軌2側(cè)邊的機(jī)體上分別設(shè)置有內(nèi)凹面磨頭3、外凸面磨頭4、兩側(cè)面磨頭5和兩端面磨頭6，每個磨頭上都安裝有與所需研磨表面形狀相吻合的定型砂輪；在機(jī)體上還設(shè)置有驅(qū)動磁瓦1在導(dǎo)軌2上滑動的送進(jìn)裝置7；導(dǎo)軌2為兩根并排設(shè)置的導(dǎo)桿，所述的磁瓦1在導(dǎo)桿上的狀態(tài)為內(nèi)凹面朝上，送進(jìn)裝置7為由電機(jī)驅(qū)動的上下設(shè)置的壓輪；兩端面磨頭6設(shè)置在最終的加工工位處，在兩端面磨頭6與前道磨頭之間的位置處設(shè)置有將磁瓦1從內(nèi)凹面朝上的軸線水平狀態(tài)撥成內(nèi)凹面朝向側(cè)面的軸線垂直狀態(tài)并將磁瓦1推向兩端面磨頭6的撥推裝置8；內(nèi)凹面磨頭3、外凸面磨頭4、兩側(cè)面磨頭5和兩端面磨頭6上還分別設(shè)置有冷卻裝置；冷卻裝置為具有噴頭、接水槽、循環(huán)水箱和水泵的裝置；機(jī)體上還設(shè)置有罩殼，罩殼和冷卻裝置在附圖上沒有繪出，另外，本發(fā)明的磁瓦研磨設(shè)備還應(yīng)設(shè)置有控制裝置，控制裝置在附圖上也沒有繪出。

由于外凸面磨頭4設(shè)置在與內(nèi)凹面磨頭3和兩側(cè)面磨頭5的相對于導(dǎo)軌2的另一側(cè)，所以，在外凸面磨頭4位置處的導(dǎo)軌2處于斷開狀態(tài)，在外凸面磨頭4的對應(yīng)位置還專門設(shè)置有壓輪。

為了保證磁瓦1在導(dǎo)軌2上移動狀態(tài)穩(wěn)定，在磁瓦1的兩側(cè)還可以設(shè)置導(dǎo)向塊。

如附圖具體結(jié)構(gòu)的本發(fā)明的使用過程是這樣的：

將磁瓦1內(nèi)凹面朝上順序放置在導(dǎo)軌2上，由送進(jìn)裝置7送進(jìn)，磁瓦經(jīng)兩側(cè)面磨頭5、內(nèi)凹面磨頭3和外凸面磨頭4的順序完成磁瓦1的兩側(cè)面、內(nèi)凹面和外凸面的研磨，再經(jīng)撥推裝置8將磁瓦1撥成軸線垂直的狀態(tài)，并被撥推裝置8推進(jìn)兩端面磨頭6的磨削位置，從而完成磁瓦1所有需要研磨表面的加工。