[發明專利]電子束加熱源真空鍍膜

無效

• 申請號: 200710132925.1
• 申請日: 2007-09-20
• 公開（公告）號: CN101135041A
• 公開（公告）日: 2008-03-05
• 發明（設計）人: 李榮華
• 申請（專利權）人: 吳江市天地人真空爐業有限公司
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明是屬熱處理行業領域。特別是一種用電子束來作為加熱蒸發源的真空鍍膜機。

背景技術

目前的真空離子鍍膜一般采用的是電阻加熱和高頻加熱。由于一些高熔點的蒸發源，以上加熱的方法無法達到熔化而被蒸發，從而無法實現對一些耐高溫材料的蒸鍍。

發明內容

本發明主要是用電子束加熱的方法來給蒸發源進行加熱。電子束的高能電子打到坩堝的鍍膜材料上時，絕大部分電子被復合形成束流，同時，電子將動能轉變成熱能加熱熔化蒸發鍍膜材料。電子束能產生很高的溫度，能熔融一些耐高溫蒸發源。電子束流在加熱鍍膜材料的同時，也會把鍍膜材料的電子激發出來，電子在探極的電場的吸引下加速運動，被激發、電離的鍍膜材料的原子具有較高的活性。從而沉積在基片上。

具體實施方式

該設備主要是用電子束加熱的方法來給蒸發源進行加熱。電子束的高能電子打到坩堝的鍍膜材料上時，絕大部分電子被復合形成束流，同時，電子將動能轉變成熱能加熱熔化蒸發鍍膜材料。為了保證電子搶穩定地工作，電子搶的真空度因保持在5*10^-2Pa以上，其主要的結果有：真空爐體、e型電子束加熱搶、活化極、活化極電原、工件偏壓電原、抽真空系統等組成。