[發(fā)明專利]一種精密數(shù)字化微納米壓印的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710132387.6
• 申請日: 2007-09-13
• 公開（公告）號: CN101131537A
• 公開（公告）日: 2008-02-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 申溯;陳林森;魏國軍;周雷;周小紅;解正東;吳智華
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州蘇大維格數(shù)碼光學(xué)有限公司;蘇州大學(xué)
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司
• 代理人: 陶海鋒

1.一種精密數(shù)字化微納米壓印的方法，其特征在于，包括下列步驟：

(1)將待壓印的微納結(jié)構(gòu)圖形劃分為微區(qū)單元陣列；

(2)根據(jù)微區(qū)單元的大小、形狀和圖案制作壓印模仁；

(3)確定壓印模仁與待壓印基板的相對位置，進(jìn)入第一個壓印工作位；

(4)采用熱壓印或紫外壓印的方法實(shí)現(xiàn)一個微區(qū)單元的微納結(jié)構(gòu)圖形壓印；

(5)改變壓印模仁與待壓印基板的相對位置，至下一個壓印工作位；

(6)重復(fù)步驟(4)和(5)，直至完成所有微區(qū)單元的壓印，即實(shí)現(xiàn)了所需壓印的微納結(jié)構(gòu)圖形的制作。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精密數(shù)字化微納米壓印的方法，其特征在于：所述步驟(5)中，壓印模仁與待壓印基板的相對位置由下列運(yùn)動自由度限定，以待壓印基板所在平面為x-y平面，兩者間具有x軸和y軸方向的平移運(yùn)動自由度，所述壓印模仁具有繞z軸的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動自由度，通過x軸和y軸的平移運(yùn)動到達(dá)下一壓印點(diǎn)，通過z軸旋轉(zhuǎn)運(yùn)動進(jìn)入所需壓印工作位；所述步驟(4)中，通過壓印模仁在z軸方向的平移運(yùn)動實(shí)現(xiàn)壓印。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的精密數(shù)字化微納米壓印的方法，其特征在于：所述壓印模仁的繞z軸的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動自由度為，旋轉(zhuǎn)角度-180°～+180°，旋轉(zhuǎn)精度為0.1°。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精密數(shù)字化微納米壓印的方法，其特征在于：在所述步驟(4)和步驟(5)之間，更換壓印模仁或改變壓印模仁的空間取向。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精密數(shù)字化微納米壓印的方法，其特征在于：在所述步驟(4)中，每次進(jìn)行壓印時，根據(jù)待壓制圖形相對位置的特征通過控制壓力實(shí)現(xiàn)壓印深度的控制。

6.采用權(quán)利要求1的方法實(shí)現(xiàn)精密數(shù)字化微納米壓印的裝置，包括放置待壓印基板的工作平臺，安裝壓印模仁的壓印頭及其驅(qū)動裝置，固化結(jié)構(gòu)及控制裝置，其特征在于：以待壓印基板所在平面為x-y平面，所述工作平臺與所述壓印頭具有x軸和y軸方向的相對平移運(yùn)動自由度，所述壓印模仁的驅(qū)動裝置包括數(shù)控的使壓印模仁繞z軸旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動裝置和數(shù)控的z軸方向的平移運(yùn)動裝置，所述控制裝置提供各運(yùn)動裝置的控制信號、固化信號，并實(shí)現(xiàn)壓力控制。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于：所述工作平臺具有數(shù)控的x軸平移運(yùn)動裝置和數(shù)控的y軸平移運(yùn)動裝置。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于：所述工作平臺具有數(shù)控的y軸平移運(yùn)動裝置，所述壓印頭的驅(qū)動裝置包括數(shù)控的x軸平移運(yùn)動裝置。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于：所述固化結(jié)構(gòu)為熱壓印結(jié)構(gòu)，由設(shè)置于壓印模仁上方的加熱裝置構(gòu)成。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于：所述固化結(jié)構(gòu)為紫外壓印結(jié)構(gòu)，在壓印頭上方或工作平臺下方設(shè)置有紫外燈。