[發(fā)明專利]半導(dǎo)體加工系統(tǒng)及其保護(hù)真空壓力敏感元件的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710122007.0
• 申請(qǐng)日: 2007-09-19
• 公開（公告）號(hào): CN101393844A
• 公開（公告）日: 2009-03-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 南建輝;宋巧麗
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): H01L21/00
• 分類號(hào): H01L21/00;H01L21/3065;H01L21/205;H01L21/67
• 代理公司: 北京凱特來知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 趙鎮(zhèn)勇

1.一種半導(dǎo)體加工系統(tǒng)，包括真空系統(tǒng)，所述真空系統(tǒng)連接有大量程真空規(guī)和至少一個(gè)真空壓力敏感元件，所述真空壓力敏感元件與所述真空系統(tǒng)的連接處設(shè)有保護(hù)閥門，其特征在于，還包括壓力信號(hào)處理單元，所述大量程真空規(guī)檢測所述真空系統(tǒng)的壓力信號(hào)，并將該信號(hào)輸入給所述壓力信號(hào)處理單元，所述壓力信號(hào)處理單元對(duì)該信號(hào)進(jìn)行處理，并根據(jù)處理的結(jié)果控制所述保護(hù)閥門的開關(guān)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體加工系統(tǒng)，其特征在于，所述的壓力信號(hào)處理單元包括信號(hào)處理電路、隔離電路，所述信號(hào)處理電路與所述大量程真空規(guī)電連接；所述隔離電路與所述保護(hù)閥門電連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體加工系統(tǒng)，其特征在于，所述的信號(hào)處理電路包括參考信號(hào)輸入端、壓力信號(hào)輸入端。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體加工系統(tǒng)，其特征在于，所述的隔離電路包括常閉端、常開端、公共端，分別與所述保護(hù)閥門電連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體加工系統(tǒng)，其特征在于，所述的真空壓力敏感元件包括分子泵、小量程真空規(guī)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體加工系統(tǒng)，其特征在于，所述的分子泵的進(jìn)口和出口分別設(shè)有保護(hù)閥門。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體加工系統(tǒng)，其特征在于，所述的保護(hù)閥門為氣動(dòng)閥。

8.一種權(quán)利要求1至7所述的半導(dǎo)體加工系統(tǒng)中保護(hù)真空壓力敏感元件的方法，其特征在于，根據(jù)半導(dǎo)體加工系統(tǒng)中的大量程真空規(guī)的壓力信號(hào)控制真空壓力敏感元件的保護(hù)閥門的開關(guān)，實(shí)現(xiàn)對(duì)真空壓力敏感元件的保護(hù)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的保護(hù)真空壓力敏感元件的方法，其特征在于，將所述大量程真空規(guī)的壓力信號(hào)與預(yù)定的門限值進(jìn)行比較，根據(jù)比較的結(jié)果控制所述保護(hù)閥門的打開或關(guān)閉。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的保護(hù)真空壓力敏感元件的方法，其特征在于，所述的真空壓力敏感元件包括分子泵、小量程真空規(guī)。