[發(fā)明專利]基于增強(qiáng)型PHEMT的單刀單擲開關(guān)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710121977.9 | 申請日: | 2007-09-19 |
| 公開(公告)號: | CN101394174A | 公開(公告)日: | 2009-03-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 徐靜波;張海英;葉甜春 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院微電子研究所 |
| 主分類號: | H03K17/687 | 分類號: | H03K17/687;H01P1/15 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 周國城 |
| 地址: | 100029*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 增強(qiáng) phemt 單刀 開關(guān) | ||
1、一種基于增強(qiáng)型贗配高電子遷移率場效應(yīng)晶體管的單刀單擲微波開關(guān),其特征在于,該微波開關(guān)包括三個增強(qiáng)型贗配高電子遷移率場效應(yīng)晶體管E?PHEMT、三個限流電阻R、兩個隔直電容C和兩個電壓控制端,
其中,所述第一電壓控制端V1的正極通過第一限流電阻R1與第一增強(qiáng)型贗配高電子遷移率場效應(yīng)晶體管E?PHEMT1的柵極連接;
所述第二電壓控制端V2的正極通過第二限流電阻R2與第二增強(qiáng)型贗配高電子遷移率場效應(yīng)晶體管E?PHEMT2的柵極連接,通過第三限流電阻R3與第三增強(qiáng)型贗配高電子遷移率場效應(yīng)晶體管E?PHEMT3的柵極連接;
所述E?PHEMT1的漏極、E?PHEMT2的漏極同時與第一隔直電容C1的一端連接,第一隔直電容C1的另一端接輸入端RF?IN;
所述E?PHEMT1的源極、E?PHEMT3的漏極同時與第二隔直電容C2的一端連接,第二隔直電容C2的另一端接輸出端RF?OUT。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于增強(qiáng)型贗配高電子遷移率場效應(yīng)晶體管的單刀單擲微波開關(guān),其特征在于,所述E?PHEMT2的源極和EPHEMT3的源極均接地。
3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于增強(qiáng)型贗配高電子遷移率場效應(yīng)晶體管的單刀單擲微波開關(guān),其特征在于,所述第一電壓控制端V1的負(fù)極和第二電壓控制端V2的負(fù)極均接地。
4、根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于增強(qiáng)型贗配高電子遷移率場效應(yīng)晶體管的單刀單擲微波開關(guān),其特征在于,
當(dāng)E?PHEMTT的柵極電壓為1V時,該E?PHEMT處于導(dǎo)通狀態(tài);
當(dāng)E?PHEMT的柵極電壓為0~0.2V的閾值電壓時,該E?PHEMT處于關(guān)閉狀態(tài)。
5、根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于增強(qiáng)型贗配高電子遷移率場效應(yīng)晶體管的單刀單擲微波開關(guān),其特征在于,當(dāng)串聯(lián)E?PHEMT1處于開啟狀態(tài),并聯(lián)E?PHEMT2、E?PHEMT3處于關(guān)閉狀態(tài)時,微波開關(guān)處于導(dǎo)通狀態(tài),插入損耗低,無限射頻RF信號從輸入端RF?IN傳輸?shù)捷敵龆薘F?OUT;當(dāng)串聯(lián)E?PHEMT1處于關(guān)閉狀態(tài),并聯(lián)E?PHEMT2、E?PHEMT3處于導(dǎo)通狀態(tài)時,微波開關(guān)處于關(guān)閉狀態(tài),隔離度高,RF信號不能從輸入端RF?IN傳輸?shù)捷敵龆薘F?OUT。
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