[發明專利]一種微型金屬鎳模具制作方法無效
| 申請號： | 200710115315.0 | 申請日： | 2007-12-11 |
| 公開（公告）號： | CN101205054A | 公開（公告）日： | 2008-06-25 |
| 發明（設計）人： | 蘭紅波 | 申請（專利權）人： | 山東大學 |
| 主分類號： | B81C1/00 | 分類號： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 濟南圣達專利商標事務所 | 代理人： | 張勇 |
| 地址： | 250061山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 微型 金屬 模具 制作方法 | ||
1.一種微型金屬鎳模具制作方法，其特征在于，它采用紫外光納米壓印和微電鑄復合工藝實現微型金屬鎳模具低成本批量制作，其基本工藝流程是：
(1)以電子束直寫光刻和干法刻蝕制作母版；
(2)以玻璃為基片，對其進清洗和烘干表面預處理；
(3)在玻璃基片濺射一層90-110nm厚的Cr/Cu電鑄種子層；
(4)以步驟(1)制作的母版為壓印模具，采用UV納米壓印工藝在紫外光有機光固化基體材料上復制出模具型腔微結構；
(5)在基體材料沉積8-12nm厚的Cr/Cu或Au/Ti電鑄種子層；
(6)在基體材料種子層之上電鑄沉積厚度300-500μm鎳；
(7)附加金屬背襯；
(8)脫模。
2.根據權利要求1所述的微型金屬鎳模具制作方法，其特征在于，所述步驟(1)中，以電子束直寫光刻和干法刻蝕制備含模具型腔微結構的母版方法為，
①玻璃基片上沉積一層ITO薄膜，隨后采用PECVD濺射SiO2，其厚度根據所制備微結構圖形決定，并在SiO2上旋轉涂鋪電子束光刻膠PMMA；
②用電子束直寫光刻制作微結構圖形，顯影后在電子束光刻膠上得到微結構特征圖形；
③干法刻蝕SiO2；
④去膠后，形成含模具型腔微結構的母版。
3.根據權利要求1所述的微型金屬鎳模具制作方法，其特征在于，所述步驟(4)中，以步驟(1)制作的母版為壓印模具，采用UV納米壓印工藝在紫外光有機光固化基體材料上復制出模具型腔微結構方法為，
①在種子層表面上均勻旋轉涂鋪UV納米壓印工藝所用的光刻膠，如紫外光有機光固化基體材料；
②利用步驟(1)制作的母版作為壓印的模具，對正后壓向涂鋪在基片上的光刻膠；
③采用紫外光從模版背面照射基體材料，曝光固化成型后，脫模；
④使用反應離子刻蝕RIE去除殘留的光刻膠，顯影、堅膜后在基體材料上制作出模具型腔微結構。
4.根據權利要求1所述的微型金屬鎳模具制作方法，其特征在于，所述的基體材料可以選擇MonoMat、PAK01、AMONIL?MMS?3和mrUVCur06中的一種或多種，或UV納米壓印工藝所使用其他各種光刻膠。
5.根據權利要求1所述的微型金屬鎳模具制作方法，其特征在于，所述步驟(1還可以采用微細切削加工或微細特種加工制作三維微米級的母版，實現復雜三維微米精度微型金屬模具的制作。
6.根據權利要求1所述的微型金屬鎳模具制作方法，其特征在于，所述步驟(4)在制作具有倒切等特征的復雜三維微結構的微型模具時，可以采用逆壓印成型工藝。
7.根據權利要求1所述的微型金屬鎳模具制作方法，其特征在于，所述步驟(4)對于大面積微型金屬模具，可以采用步進重復壓印成型工藝。
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