[發明專利]描圖系統

有效

• 申請號: 200710112529.2
• 申請日: 2007-06-20
• 公開（公告）號: CN101097406A
• 公開（公告）日: 2008-01-02
• 發明（設計）人: 三好久司
• 申請（專利權）人: 株式會社ORC制作所
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司
• 代理人: 黃綸偉

技術領域

本發明是有關于一種以作為原版的光罩(レクチル)或直接地對印刷基板或矽晶等的被描圖體形成電路圖案等的圖案的描圖裝置。特別是對應于基板的變形而修正描圖位置。

背景技術

在基板等的被描圖體的制程中，對于涂布了光阻等的感光材料的被描圖體實施為了形成圖案的描圖處理。經過了顯像處理、蝕刻或鍍膜處理、光阻剝離等的制程，在被描圖體上形成圖案。例如，在使用使LCD、DMD、SLM(Spatial?Light?Modulators)等光調變組件做二維排列的光調變單元的描圖裝置中，使光調變單元形成的照射區域(以下稱曝光區域)對于基板做相對性的掃描，同時對應于描圖圖案以既定的時序控制各光調變組件。

由于基板本身由熱處理、堆積等因素而變形，設有對準調整用的標記，在基板變形的狀態下，根據所量測的定位標記，修正圖案的描圖位置。設定在基板的四角構成矩形的對準標記，根據實際量測到的對準標記的位置，算出基板變形所造成的重心位置的偏移以及描圖區域的旋轉傾斜角等。然后，根據算出的資料修正描圖位置(參照專利文獻1、2)

專利文獻1日本特開2005-300628號公報

專利文獻2日本特開2000-122303號公報

發明內容

由于基板變形的狀態是不均一的，各描圖區域的中心附近以及其以外，例如在邊界附近，基板的變形方向、變形量等的變形狀態是不同的。因此，大約相同尺寸的描圖圖案在基板上分割成復數塊(多倒角)描圖的情況下，在對描圖區域整體以代表性的修正量修正描圖位置時，若不將描圖位置修正為適當的位置，則無法形成精度佳的圖案。

本發明的描圖系統為對應于基板的變形而適當地修正，同時在形成階層性的描圖圖案之際，可維持各描圖(倒角)圖案的區域形狀的描圖系統。描圖系統包括：光源；至少一光調變單元，其對于被描圖體，根據具有基于所規定的坐標系的位置坐標的描圖資料，而調變來自上述光源的照明光；量測裝置，其在被描圖體變形的狀態下，可量測在上述被描圖體上預設的構成基準矩形的頂點的四個量測用指針的位置；修正裝置，其根據藉由分割上述基準矩形而定出的復數個基準分割區域以及藉由分割以所量測的上述四個量測用指針做為頂點的變形矩形而定出的矩形狀復數個變形分割區域，在各基準分割區域中，修正描圖資料的位置坐標而產生修正描圖資料；以及描圖處理裝置，其控制上述光調變單元，根據修正描圖資料形成描圖圖案，其中上述修正裝置修正描圖資料的位置坐標，使得根據對應于各變形分割區域的以基準分割區域為準的變形量修正矩形區域，上述修正裝置算出作為上述變形量的中心位置的偏移量、旋轉量、尺寸比至少其中之一，而修正描圖資料的位置坐標，上述修正裝置系根據對應于上述基準分割區域的上述變形分割區域的中心位置的偏移量、對應于上述基準分割區域的上述變形分割區域的旋轉角以及對應于上述基準矩形的上述變形矩形的尺寸比，而修正描圖資料的位置坐標。例如可修正具有成為向量資料的位置坐標信息的描圖資料的位置坐標，轉換成光柵資料而實施描圖處理。又，光調變組件可為DMD、LCD等復數個光調變組件做二維規則性的排列而形成。

在本發明中，藉由分割基準矩形而定出復數個分割區域(以下稱基準分割區域)，同時以量測到的四個量測用指針做為頂點，藉由分割基準矩形變形的四角形(以下稱變形矩形)而定出矩形狀復數個分割區域(以下稱變形分割區域)。即，在四點的量測用指針的全體性描圖區域中，分別對基準矩形、變形矩形定出復數個描圖區域。每個分割的區域成為描圖圖案區域。然后，修正裝置在各基準分割區域中修正在各區域內的描圖資料的位置坐標。而且，修正裝置修正描圖資料的位置坐標，而根據以基準分割區域為準的變形狀態將各變形分割區域修正為矩形區域。在此處的變形狀態為相對于基準分割區域的中心位置、重心位置的偏移、旋轉程度及尺寸比等所表示的變形量。藉由使變形的分割描圖區域成為矩形狀的描圖位置修正，及使在形成階層性的圖案的情況下，也不會產生圖形的偏差。又，由于根據各區域的誤差而修正，整體性的描圖區域的局部性的誤差量也對應于分割區域的數量n而變成1/n，修正的精度提升。形成于各描圖區域的描圖圖案可為重復描圖(倒角)的相同尺寸，對每個重復的圖案進行修正處理。在此情況下，在向量資料中包含有哪個描圖圖案的配置坐標以及鄰接的圖案間的間隔(間距)。