[發明專利]黑矩陣成分及其形成方法無效
| 申請號: | 200710111180.0 | 申請日: | 2007-06-14 |
| 公開(公告)號: | CN101114035A | 公開(公告)日: | 2008-01-30 |
| 發明(設計)人: | 泉元·上;立圭·鄒 | 申請(專利權)人: | 應用材料股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/23 | 分類號: | G02B5/23;C09D7/12;C09D4/00 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 | 代理人: | 徐金國;梁揮 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 矩陣 成分 及其 形成 方法 | ||
1.一種用于形成平板顯示器的濾色片的黑矩陣成分,包括:
包括聚合分子的添加劑,所述每個聚合分子都包括極性部分和非極性部分,其中所述非極性部分具有疏墨性。
2.根據權利要求1所述的黑矩陣成分,其特征在于,在所述表面暴露于活化能時,所述聚合分子的所述非極性部分朝向所述黑矩陣成分的表面遷移。
3.根據權利要求1所述的黑矩陣成分,其特征在于,所述聚合分子的所述極性部分相對于所述非極性部分具有親墨性。
4.根據權利要求1所述的黑矩陣成分,其特征在于,所述添加劑包括以下至少其中之一:氟化丙烯酸酯單體、氟化丙烯酸酯低聚物、含硅樹脂基的丙烯酸酯單體、含硅樹脂基的丙烯酸酯低聚物、含疏水基的丙烯酸酯單體、含疏水基的丙烯酸酯低聚物、活性蠟和氟硅烷。
5.根據權利要求1所述的黑矩陣成分,其特征在于,進一步包含以下至少其中之一:
顏料分散劑;
引發劑;
聚合單體或低聚物;
粘合劑樹脂;以及
溶劑。
6.根據權利要求1所述的黑矩陣成分,其特征在于,所述黑矩陣成分包括按重量計占有不含任何溶劑的黑矩陣成分的約百萬分之100到約百萬分之10,000濃度范圍內的添加劑。
7.根據權利要求1所述的黑矩陣成分,其特征在于,所述添加劑具有在從約100Mw到約100,000Mw重均分子量范圍內的分子量。
8.一種用于形成平板顯示器的濾色片的涂覆基板,包括:
基板;以及
在所述基板上形成的黑矩陣成分的層,其中所述黑矩陣成分包括聚合分子,所述每個聚合分子都包括極性部分和非極性部分,其中所述非極性部分具有疏墨性。
9.根據權利要求8所述的涂覆基板,其特征在于,在所述表面暴露于活化能的時候,所述聚合分子的非極性部分朝向所述黑矩陣成分的表面遷移。
10.根據權利要求8所述的涂覆基板,其特征在于,所述聚合分子的所述極性部分相對于所述非極性部分具有親墨性。
11.根據權利要求8所述的涂覆基板,其特征在于,所述聚合分子包括以下至少其中之一:氟化丙烯酸酯單體、氟化丙烯酸酯低聚物、含硅樹脂基的丙烯酸酯單體、含硅樹脂基的丙烯酸酯低聚物、含疏水基的丙烯酸酯單體、含疏水基的丙烯酸酯低聚物、活性蠟和氟硅烷。
12.根據權利要求8所述的涂覆基板,其特征在于,所述黑矩陣成分進一步包含以下至少其中之一:
顏料分散劑;
引發劑;
聚合單體或低聚物;
粘合劑樹脂;以及
溶劑。
13.根據權利要求8所述的涂覆基板,其特征在于,所述黑矩陣成分包括按重量計占有不含任何溶劑的黑矩陣成分的約百萬分之100到約百萬分之10,000濃度范圍內的添加劑。
14.根據權利要求8所述的涂覆基板,其特征在于,所述聚合分子具有在從約100Mw到約100,000Mw重均分子量范圍內的分子量。
15.一種形成平板顯示器的濾色片的方法,包括:
形成包括聚合分子的黑矩陣成分,所述每個聚合分子都包括極性部分和非極性部分,其中所述非極性部分具有疏墨性;
提供基板;
在所述基板上形成所述黑矩陣成分的層;以及
施加活化能到所述基板上的所述黑矩陣成分。
16.根據權利要求15所述的方法,其特征在于,形成黑矩陣成分進一步包括形成黑矩陣成分,在該黑矩陣成分中所述聚合分子的所述非極性部分響應于向所述黑矩陣成分施加的活化能向所述黑矩陣聚合物的表面移動。
17.根據權利要求15所述的方法,其特征在于,形成黑矩陣成分進一步包括形成黑矩陣成分,其中所述聚合分子的所述極性部分相對于所述非極性部分具有親墨性。
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