[發(fā)明專利]產(chǎn)生不相干輻射的反射環(huán)路系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710109897.1 | 申請日: | 2007-06-05 |
| 公開(公告)號: | CN101105638A | 公開(公告)日: | 2008-01-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | J·J·M·巴塞爾曼斯;K·尤雅馬 | 申請(專利權(quán))人: | ASML荷蘭有限公司;大日本網(wǎng)目版制造株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 曾祥夌;王小衡 |
| 地址: | 荷蘭費*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 產(chǎn)生 不相干 輻射 反射 環(huán)路 系統(tǒng) | ||
1.一種系統(tǒng),包括:
輻射源,它產(chǎn)生相干或部分相干射束;以及
反射環(huán)路系統(tǒng),它包括曲面反射裝置,并配置成通過環(huán)路反射所述部分相干射束,以形成更加不相干的射束。
2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述反射環(huán)路系統(tǒng)包括第二反射裝置。
3.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng),其中第一和第二反射裝置都是曲面的。
4.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng),其中第一和第二反射裝置中的至少一個包括第一和第二部分,且第一和第二部分中的至少一個相對于第一和第二反射裝置的相應(yīng)反射面不對準(zhǔn)。
5.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述反射環(huán)路系統(tǒng)包括第二到第四反射裝置。
6.如權(quán)利要求5所述的系統(tǒng),其中四個反射裝置包括三個平面反射裝置和所述曲面反射裝置。
7.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述反射環(huán)路系統(tǒng)包括反射裝置,所述反射裝置具有相對彼此傾斜的相應(yīng)反射面,以便形成不重疊環(huán)路。
8.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中:
使用第一光學(xué)裝置使所述部分相干射束入耦合到所述反射環(huán)路系統(tǒng)中;以及
使用第二光學(xué)裝置使所述不相干射束從所述反射環(huán)路系統(tǒng)中出耦合。
9.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述反射環(huán)路系統(tǒng)包括場平面和光瞳平面。
10.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述反射環(huán)路系統(tǒng)包括兩個場平面和兩個光瞳平面。
11.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述至少部分相干射束或所述不相干射束穿過所述反射環(huán)路系統(tǒng)中的針孔。
12.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述反射環(huán)路系統(tǒng)還包括:
第二反射裝置,與所述反射環(huán)路系統(tǒng)的場相關(guān)聯(lián);以及
第三反射裝置,與所述反射環(huán)路系統(tǒng)的光瞳相關(guān)聯(lián),
其中基于第二和第三反射裝置的相應(yīng)反射面之間的不對準(zhǔn),改變所述場或所述光瞳的位置。
13.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述反射環(huán)路系統(tǒng)配置成,在每個環(huán)路后,所述不相干射束的第一部分從所述反射環(huán)路系統(tǒng)透射,且所述不相干射束的其余部分沿所述環(huán)路中的另一環(huán)路被引導(dǎo)。
14.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中:
所述不相干射束通過所述反射環(huán)路系統(tǒng)的光瞳或場中之一被透射;以及
所述至少部分相干射束在所述反射環(huán)路系統(tǒng)的光瞳或場中的另一個被接收。
15.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),還包括:
圖案形成裝置,它使所述不相干射束形成圖案;以及
投射系統(tǒng),它將所述不相干射束投射到襯底的目標(biāo)部分上。
16.如權(quán)利要求15所述的系統(tǒng),還包括:
照射系統(tǒng),它處理所述不相干射束,并將所述不相干射束引導(dǎo)到所述圖案形成裝置上。
17.如權(quán)利要求16所述的系統(tǒng),其中所述照射系統(tǒng)包括所述輻射源和所述反射環(huán)路系統(tǒng)。
18.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述環(huán)路的路徑長度大于所述至少部分相干射束的時間相干長度。
19.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),還包括:
一個或多個附加反射環(huán)路系統(tǒng),它們配置成從上游反射環(huán)路系統(tǒng)接收相應(yīng)的不相干射束,并通過環(huán)路反射所述不相干射束,以形成另一不相干射束。
20.一種光刻系統(tǒng),包括:
照射系統(tǒng),它產(chǎn)生輻射的照射射束,包括:
輻射源,以及
反射環(huán)路系統(tǒng),它包括曲面反射裝置;
圖案形成裝置,它使所述輻射的照射射束形成圖案;以及
投射系統(tǒng),它將形成圖案的射束投射到襯底的目標(biāo)部分上。
21.如權(quán)利要求20所述的光刻系統(tǒng),其中:
所述反射環(huán)路系統(tǒng)配置成接收所述部分相干射束,并在環(huán)路中反射所述部分相干射束,以形成不相干射束。
22.如權(quán)利要求21所述的光刻系統(tǒng),其中所述反射環(huán)路系統(tǒng)配置成,在每個環(huán)路后,所述不相干射束的第一部分從所述反射環(huán)路系統(tǒng)被透射,且所述不相干射束的其余部分沿所述環(huán)路中的另一環(huán)路被引導(dǎo)。
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