[發明專利]光學裂紋粒挑選器有效
| 申請號: | 200710109183.0 | 申請日: | 2007-06-14 |
| 公開(公告)號: | CN101088633A | 公開(公告)日: | 2007-12-19 |
| 發明(設計)人: | 伊藤隆文;原正純;惠木正博;土井貴廣 | 申請(專利權)人: | 株式會社佐竹 |
| 主分類號: | B07C5/342 | 分類號: | B07C5/342;G01N21/85 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 | 代理人: | 曾賢偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 裂紋 挑選 | ||
技術領域
本發明涉及光學裂紋粒挑選器,其能夠光學地從諸如糙米、精白米等原料 稻谷中確定和挑選出可去除的裂紋粒。
背景技術
傳統上,已知光學裂紋粒挑選器裝置光學地檢測和挑選具有一個或多個穿 入顆粒內部的裂紋的米粒(之后稱為“裂紋粒”,“cracked?grain”),例如 JP2005-265519A和JP3642172B中公開的。通常,上述米粒中的裂紋沿著基本 上垂直于米粒縱向方向的方向上延伸。如圖10中的實例所示,一種傳統的光 學裂紋粒挑選器100包括斜槽200,用于向下傾倒原料米粒;和,光學檢測裝 置300和挑選裝置400,設置在接近斜槽200的底端位于沿原料米粒下降的向 下軌跡G位置上。光學檢測裝置300具有發射器300a,設置在下降軌跡G的 一側上,其朝向下降軌跡G上的光學檢測位置P發射近直線的激光光束;和 CCD(電荷耦合器件)攝像機300b,設置在下降軌跡G的另一側上,用于檢 測光學檢測位置P處的光。這種光學裂紋粒挑選器100把原料米粒沿斜槽200 向下送出,并在它們通過下降軌跡G上的光學檢測點P時用光學檢測裝置300 照射原料米粒,以便使用CCD攝像機300b拍攝穿過顆粒的光,并且使用單獨 設置的裂紋粒識別裝置500處理信號并根據接收到的光數據識別裂紋粒,以及 使用挑選裝置400挑選出識別的裂紋粒以去除。
然而,以上描述的光學裂紋粒挑選器100具有下述的問題。特別是,裂紋 粒識別裝置500根據接收的光數據識別每個米粒的總體圖像(總體視覺圖像), 并且,每當在這樣識別的每個顆粒的圖像中檢測到對應于裂紋的數據的線性暗 影時識別裂紋粒。但是,每個米粒都具有胚芽部分,有時外表也會出現表面裂 紋(之后稱為“劃痕(scratches)”),而眾所周知的,胚芽部和劃痕是會不利 地影響識別裂紋粒時的識別精確性的。換句話說,當米粒中存在胚芽部和劃痕 時,它們表現為暗影,就像裂紋一樣,由于此原因,沒有裂紋的正常顆粒會被 錯誤地識別為裂紋粒,導致生產率下降。
發明內容
本發明提供了一種光學裂紋粒挑選器,光學地識別原料米粒中混雜的裂紋 粒時,不會由于存在胚芽部和/或表面劃痕而錯誤地將沒有裂紋的正常顆粒識 別為裂紋粒。
本發明的一種光學裂紋粒挑選器從多個米粒中挑選裂紋粒。該光學裂紋粒 挑選器包括:傳送裝置,用于傳送按多個行排列的米粒;光學檢測裝置,包括 發光部,用于向從傳送裝置噴射的米粒的運動軌跡上的光檢測位置發射平面光 束,和攝像機,用于檢測光檢測位置上通過每個米粒的光,該發光部包括第一 色光發射器和第二色光發射器,分別用于發射不同波長的第一色光和第二色 光,該第一色光發射器包括一對發光單元,該一對發光單元設置使得其光軸和 攝像機光軸之間形成基本相同的內角,或者包括設置在攝像機的光軸上的單個 發光單元,該第二色光發射器包括光軸設置成與攝像機的光軸不一致的單個發 光單元,該攝像機設置來使得在光檢測位置上其光軸與米粒運動軌跡基本垂直 并具有分別用于接收第一色光和第二色光的第一光接收部和第二光接收部;裂 紋粒確定裝置,用于通過根據攝像機的第一光接收部和第二光接收部接收的光 檢測每個米粒中的裂紋來確定米粒中的裂紋粒;以及,挑選/分離裝置,用于 挑選并分離由裂紋粒確定裝置確定出的裂紋粒。
該第一色光和第二色光包括波長為600nm-710nm的紅光、波長為 500nm-580nm的綠光、和波長為420nm-520nm的藍光中的兩種。
該第一色光發射器的一對發光單元的各自的光軸和所述攝像機光軸之間 形成的內角不大于70度。????
第一色光發射器的一對發光單元可以設置為相對于包含攝像機光軸的平 面對稱。
第一色光發射器和第二色光發射器可以由發光二極管構成。
攝像機的第一光接收部和第二光接收部分別可以包括分開設置的第一 CCD傳感器和第二CCD傳感器。
第一CCD傳感器和第二CCD傳感器可以是彩色CCD線傳感器,并且攝 像機設置有光散射裝置,用于將光檢測位置處通過米粒的光散射為第一色和第 二色,以輸入到相應的彩色CCD線傳感器中。
裂紋粒確定裝置可以分別根據第一光接收部接收的光和第二光接收部接 收的光生成每個米粒的第一圖像和第二圖像,可以根據第一圖像和第二圖像的 光量差檢測每個米粒中的裂紋。
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