[發明專利]信息處理裝置及其處理方法、半導體制造系統和存儲介質

有效

• 申請號: 200710108521.9
• 申請日: 2007-05-31
• 公開（公告）號: CN101082817A
• 公開（公告）日: 2007-12-05
• 發明（設計）人: 小山典昭;小幡穣;王文凌
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: G05B19/04
• 分類號: G05B19/04;G05D23/19;H01L21/00
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司
• 代理人: 龍淳

1.一種信息處理裝置，該信息處理裝置處理作為關于半導體制造 裝置處理時的狀態的值的狀態值，該半導體制造裝置對包含半導體的 處理對象物進行與作為設定處理條件的值的設定值相應的處理，所述 信息處理裝置的特征在于，包括：

接受所述設定值的設定值接受部；

接受所述狀態值的狀態值接受部；

利用作為表示所述設定值和所述狀態值的校正量的關系的函數的 校正函數，算出所述校正量的校正量算出部；

利用所述校正量算出部算出的校正量校正所述狀態值接受部接受 的狀態值的校正部；和

輸出所述校正部已校正的狀態值的輸出部，

所述校正函數是表示所述設定值的變化量和作為從該設定值的變 化量預測的狀態值的變化量的所述校正量的關系的函數；

所述校正量算出部利用該校正函數，算出與所述設定值接受部接 受的設定值的、相對預定值的變化量對應的所述校正量，

所述校正函數是以校正矩陣作為系數的函數，所述校正矩陣為將 作為通過順次地使矩陣的各要素的值只改變單位量，將在所述半導體 制造裝置中進行處理時得到的狀態值的變化量的值作為各列的值而具 有用于設定該校正函數的、以該矩陣表示的所要的設定值的矩陣。

2.根據權利要求1所述的信息處理裝置，其特征在于：

所述校正函數是將所述半導體制造裝置的傳遞函數的穩定狀態的 增益作為系數的函數。

3.根據權利要求1所述的信息處理裝置，其特征在于：

所述校正函數是利用所述設定值和與該設定值對應的所述狀態值 的多個組得到的函數。

4.根據權利要求3所述的信息處理裝置，其特征在于：

還包括利用所述設定值和與該設定值對應的所述狀態值的多個組 生成所述校正函數的校正函數生成部。

5.根據權利要求3所述的信息處理裝置，其特征在于：

所述校正函數是利用所述設定值和與該設定值對應的所述狀態值 的多個組得到的以近似式表示的函數。

6.根據權利要求1所述的信息處理裝置，其特征在于：

所述校正函數是表示所述設定值和作為與該設定值相應地預測的 狀態值的所述校正量的關系的函數；

所述校正量算出部利用該校正函數算出與所述設定值接受部接受 的設定值對應的所述校正量。

7.根據權利要求6所述的信息處理裝置，其特征在于：

所述校正函數是利用所述設定值和與該設定值對應的所述狀態值 的多個組得到的函數。

8.根據權利要求7所述的信息處理裝置，其特征在于：

還包括利用所述設定值和與該設定值對應的所述狀態值的多個組 生成所述校正函數的校正函數生成部。

9.根據權利要求7所述的信息處理裝置，其特征在于：

所述校正函數是利用所述設定值和與該設定值對應的所述狀態值 的多個組得到的以近似式表示的函數。

10.根據權利要求1所述的信息處理裝置，其特征在于：

所述設定值是設定所述半導體制造裝置內的、相對所述處理對象 物的處理條件的值，

所述狀態值是表示所述半導體制造裝置的、所述處理對象物的配 置位置以外的位置處理時的狀態的值。

11.根據權利要求1所述的信息處理裝置，其特征在于：

所述設定值接受部接受多個設定值；

所述狀態值接受部接受分別與所述多個設定值相對應的多個狀態 值；

所述校正量算出部與所述校正函數相應地算出分別與所述多個狀 態值對應的多個校正量；

所述校正部利用所述校正量算出部算出的多個校正量，校正分別 與該多個校正量對應的所述多個狀態值；

所述輸出部輸出所述校正部已校正的多個狀態值。