[發(fā)明專利]光盤信號(hào)處理裝置及再生裝置、信號(hào)處理電路及再生電路

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710105064.8
• 申請(qǐng)日: 2007-05-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101079293A
• 公開(kāi)（公告）日: 2007-11-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 山口高廣;織田剛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G11B19/12
• 分類號(hào): G11B19/12;G11B7/085;G11B7/004
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 汪惠民

1、一種光盤信號(hào)處理裝置，其中包括：激光輸出電路，其向多個(gè)數(shù)據(jù)記錄層各自的反射率間的比率保持固定比率的光盤照射激光，并檢測(cè)反射光量；和聚焦驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使所述激光輸出電路相對(duì)光盤沿垂直方向移動(dòng)，并調(diào)整所述激光的束點(diǎn)相對(duì)光盤的遠(yuǎn)近位置，

該光盤信號(hào)處理裝置具備：

第一反射光量比較電路，其利用所述聚焦驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，一邊使所述激光的束點(diǎn)位置從相對(duì)光盤遠(yuǎn)離的位置向靠近的方向移動(dòng)，一邊比較所測(cè)量的反射光量與規(guī)定的反射光量閾值；

第一反射光量存儲(chǔ)電路，其對(duì)在所述第一反射光量比較電路中最先達(dá)到所述規(guī)定的反射光量閾值以上的第一反射光量進(jìn)行存儲(chǔ)；

第二反射光量比較電路，其利用所述聚焦驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，一邊使所述激光的束點(diǎn)位置從相對(duì)光盤較近的位置向遠(yuǎn)離的方向移動(dòng)，一邊比較測(cè)量的反射光量與所述規(guī)定的反射光量閾值；

第二反射光量存儲(chǔ)電路，其對(duì)在所述第二反射光量比較電路中最先達(dá)到所述規(guī)定的反射光量閾值以上的第二反射光量進(jìn)行存儲(chǔ)；和

反射光量比較電路，其比較所述第一反射光量與所述第二反射光量。

2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤信號(hào)處理裝置，其特征在于，

還具備盤判斷電路，其基于所述反射光量比較電路的比較結(jié)果，判斷是否為Hybrid?Disc。

3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤信號(hào)處理裝置，其特征在于，

還具備表面反射判斷電路，其基于所述反射光量比較電路的比較結(jié)果，判斷所述第一反射光量是否為由光盤的表面反射引起的反射光量。

4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的光盤信號(hào)處理裝置，其特征在于，

使所述規(guī)定的反射光量閾值階段性變大。

5、一種光盤信號(hào)處理裝置，其中包括：激光輸出電路，其向多個(gè)數(shù)據(jù)記錄層各自的反射率間的比率保持固定比率的光盤照射激光，并檢測(cè)反射光量；和聚焦驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使所述激光輸出電路相對(duì)光盤沿垂直方向移動(dòng)，并調(diào)整所述激光的束點(diǎn)相對(duì)光盤的遠(yuǎn)近位置，

該光盤信號(hào)處理裝置具備：

反射光量測(cè)量電路，其利用所述聚焦驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，一邊使所述激光的束點(diǎn)位置從相對(duì)光盤遠(yuǎn)離的位置向靠近距盤表面規(guī)定距離以上的方向移動(dòng)，一邊測(cè)量多個(gè)反射光量；

最大反射光量存儲(chǔ)電路，其對(duì)在所述反射光量測(cè)量電路中得到的多個(gè)反射光量中的、最大的第一反射光量與僅次于所述第一反射光量的第二反射光量進(jìn)行存儲(chǔ)；和

反射光量比較電路，其比較所述第一反射光量與所述第二反射光量。

6、根據(jù)權(quán)利要求5所述的光盤信號(hào)處理裝置，

還具備盤判斷電路，其根據(jù)所述反射光量比較電路的比較結(jié)果，判斷是否為Hybrid?Disc。

7、一種利用了權(quán)利要求1所述的光盤信號(hào)處理裝置的光盤信號(hào)再生裝置，

基于所述第一反射光量與所述第二反射光量，決定用于確定使所述聚焦驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)動(dòng)作的層的反射光量再生閾值，

一邊使所述激光的束點(diǎn)位置從相對(duì)光盤近的位置向遠(yuǎn)離的方向移動(dòng)，一邊測(cè)量反射光量，并且比較所述測(cè)量的反射光量與所述反射光量再生閾值，

從最先得到在所述反射光量再生閾值以上的反射光量的束點(diǎn)位置，使所述聚焦驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)動(dòng)作。

8、一種采用了權(quán)利要求5所述的光盤信號(hào)處理裝置的光盤信號(hào)再生裝置，

基于所述第一反射光量與所述第二反射光量，決定用于確定使所述聚焦驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)動(dòng)作的層的反射光量再生閾值，

一邊使所述激光的束點(diǎn)位置從相對(duì)光盤近的位置向遠(yuǎn)離的方向移動(dòng)，一邊測(cè)量反射光量，并且比較所述測(cè)量的反射光量與所述反射光量再生閾值，

從最先得到在所述反射光量再生閾值以上的反射光量的束點(diǎn)位置，使所述聚焦驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)動(dòng)作。