[發(fā)明專利]圖案形成方法、濾色片、結(jié)構(gòu)材料及液晶顯示裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710104913.8 | 申請日: | 2007-05-17 |
| 公開(公告)號: | CN101075089A | 公開(公告)日: | 2007-11-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 佐藤守正 | 申請(專利權(quán))人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/00 | 分類號: | G03F7/00;G03F7/004;G02B5/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 朱丹 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖案 形成 方法 濾色片 結(jié)構(gòu) 材料 液晶 顯示裝置 | ||
1.一種圖案形成方法,其特征在于,其是至少經(jīng)過以下所述工序形成濾色片部件的圖案的圖案形成方法,即:
在基板上形成由感光性樹脂組合物構(gòu)成的感光性樹脂層的感光性樹脂層形成工序;
相對于所述感光性樹脂層,邊基于圖像數(shù)據(jù)調(diào)制光邊進行相對掃描而曝光,形成二維圖像的圖案曝光工序;和
將已曝光的所述感光性樹脂層顯影的顯影工序,
所述感光性樹脂層的γ為1~15,而且
在所述圖案曝光工序中使用的曝光裝置的曝光能線圖為10~50,
其中所述γ為:在將對一定膜厚的感光性樹脂層進行圖案曝光時的曝光能量設(shè)為E、曝光后顯影處理時的膜厚的殘存率設(shè)為Y的情況下,將曝光能量E與膜厚的殘存率之間的關(guān)系曲線化,在該曲線中,膜厚的殘存率Y成為50%的點(在該點的殘存率設(shè)為Y50,曝光能量設(shè)為E50。)中的E50±ΔE的直線的斜率(Y50+Δ-Y50-Δ)/(logE50+Δ-logE50-Δ)的值,所述曝光能線圖為:將對一定膜厚的感光性樹脂層進行圖案曝光時的曝光能量E設(shè)為100%,將曝光區(qū)域的位置座標與該E之間的關(guān)聯(lián)曲線化,在該曲線中,曝光能量成為50%的點(在該點的座標設(shè)為P50,曝光能量設(shè)為E50。)中的直線的斜率(E50+Δ-E50-Δ)/(P50+Δ-P50-Δ)的值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案形成方法,其特征在于,
所述圖案曝光利用激光曝光裝置進行,所述曝光裝置具備:光照射機構(gòu);光調(diào)制機構(gòu),其具有多個接受來自所述光照射機構(gòu)的光而射出的描繪部;微透鏡陣列,其排列有微透鏡,該微透鏡具有可以修正所述描繪部中的射出面的變形引起的像差的非球面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案形成方法,其特征在于,
所述感光性樹脂組合物含有樹脂、單體或寡聚物、光聚合引發(fā)劑或光聚合引發(fā)劑系和聚合抑制劑。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的圖案形成方法,其特征在于,
所述聚合抑制劑為選自具有苯酚性羥基的化合物、吩噻嗪及吩噁嗪中的至少一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的圖案形成方法,其特征在于,
相對于所述單體及寡聚物的含量,所述聚合抑制劑的含量在0.005~0.5質(zhì)量%的范圍。
6.一種濾色片,其特征在于,
使用權(quán)利要求1~5中任意一項所述的圖案形成方法制造。
7.一種結(jié)構(gòu)材料,其特征在于,
使用權(quán)利要求1~5中任意一項所述的圖案形成方法制造。
8.一種液晶顯示裝置,其特征在于,
具備權(quán)利要求6所述的濾色片。
9.一種液晶顯示裝置,其特征在于,
具備權(quán)利要求7所述的結(jié)構(gòu)材料。
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