[發(fā)明專利]用于金屬型鑄造工藝的模具及用該模具制造阻尼件的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710103958.3 | 申請日： | 2007-05-17 |
| 公開（公告）號： | CN101096047A | 公開（公告）日： | 2008-01-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 上田正則;諏訪雅哉 | 申請（專利權(quán)）人： | 富士通株式會社 |
| 主分類號： | B22C9/22 | 分類號： | B22C9/22;B22C9/08;G11B33/08 |
| 代理公司： | 隆天國際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 張龍哺 |
| 地址： | 日本神奈*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 金屬 鑄造 工藝 模具 制造 阻尼 方法 | ||
1.一種通過金屬型鑄造工藝來制造阻尼件的模具，該阻尼件固定在盤驅(qū)動器的殼體上并減少該殼體振動，該盤驅(qū)動器將信息記錄入記錄介質(zhì)，并再現(xiàn)該記錄介質(zhì)的信息，所述模具包括：
截面具有凹入部的本體，該本體限定了該阻尼件的形狀；
第一料口，其將熔融金屬從澆道引導(dǎo)至該本體，且設(shè)置于該本體的、與凹入部相對的第一側(cè)面上；以及
第二料口，其將熔融金屬從該本體引導(dǎo)至溢流槽，且設(shè)置在垂直于該第一側(cè)面的第二側(cè)面以及垂直于該第二側(cè)面并平行于該第一側(cè)面的第三側(cè)面的至少其中之一上。
2.如權(quán)利要求1所述的模具，其中，該第一料口包括三個或更多個料口，且中央的料口寬于兩側(cè)的各料口。
3.一種用于制造阻尼件的方法，該阻尼件固定在盤驅(qū)動器的殼體上并減少該殼體振動，該盤驅(qū)動器將信息記錄入記錄介質(zhì)，并再現(xiàn)該記錄介質(zhì)的信息；所述方法包括將熔融金屬導(dǎo)入利用金屬型鑄造工藝的模具的步驟，其中，所述模具包括：
截面具有凹入部的本體，該本體限定了該阻尼件的形狀；
第一料口，其將熔融金屬從澆道引導(dǎo)至該本體，且設(shè)置于該本體的、與凹入部相對的第一側(cè)面上；以及
第二料口，其將熔融金屬從該本體引導(dǎo)至溢流槽，且設(shè)置在垂直于該第一側(cè)面的第二側(cè)面以及垂直于該第二側(cè)面并平行于該第一側(cè)面的第三側(cè)面的至少其中之一上。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其中該熔融金屬是鋅合金。
5.一種用于制造盤驅(qū)動器的方法，所述方法包括如下步驟：
在盤驅(qū)動器的殼體上固定阻尼件，該阻尼件構(gòu)造為減少該殼體的振動；以及
在該殼體上安裝記錄介質(zhì)和頭部件，該頭部件將信息記錄入該記錄介質(zhì)并再現(xiàn)該記錄介質(zhì)上的信息；
其中該阻尼件由模具制造，該模具包括：截面具有凹入部的本體，該本體限定了該阻尼件的形狀；第一料口，其將熔融金屬從澆道引導(dǎo)至該本體，且設(shè)置于該本體的、與凹入部相對的第一側(cè)面上；以及第二料口，其將熔融金屬從該本體引導(dǎo)至溢流槽，且設(shè)置在垂直于該第一側(cè)面的第二側(cè)面以及垂直于該第二側(cè)面并平行于該第一側(cè)面的第三側(cè)面的至少其中之一上。
6.一種通過金屬型鑄造工藝制造構(gòu)件的模具，所述模具具有與該構(gòu)件的形狀相對應(yīng)的型腔，所述模具包括：
多個第一料口，其將熔融金屬導(dǎo)入該型腔；
溢流槽，其形成于關(guān)于該型腔與所述第一料口相對的第一位置上，或者形成于該型腔的、與所述多個第一料口的延伸方向相交的側(cè)面上的第二位置；以及
第二料口，其將該熔融金屬引導(dǎo)至該溢流槽。
7.一種通過金屬型鑄造工藝以及模具形成的構(gòu)件，該模具具有與該構(gòu)件的形狀相對應(yīng)的型腔并且包括：多個第一料口，其將熔融金屬導(dǎo)入該型腔；溢流槽，其形成于關(guān)于該型腔與所述第一料口相對的第一位置上，或者形成于該型腔的、與所述第一料口的延伸方向相交的側(cè)面上的第二位置；以及第二料口，其將該熔融金屬引導(dǎo)至該溢流槽。
8.一種存儲裝置，其通過轉(zhuǎn)動盤狀的記錄介質(zhì)而將信息記錄入該記錄介質(zhì)并再現(xiàn)該記錄介質(zhì)上的信息，所述存儲裝置包括：
驅(qū)動器，其驅(qū)動該記錄介質(zhì)；
頭部件，其將信息寫入該記錄介質(zhì)，并從該記錄介質(zhì)上讀取信息；
殼體，其容置該記錄介質(zhì)、該驅(qū)動器和該頭部件；以及
容置于該殼體內(nèi)的阻尼件，該阻尼件通過模具形成，該模具具有與該阻尼件的形狀相對應(yīng)的型腔并且包括：多個第一料口，其將熔融金屬導(dǎo)入該型腔；溢流槽，其形成于關(guān)于該型腔與所述第一料口相對的第一位置上，或者形成于該型腔的、與所述第一料口的延伸方向相交的側(cè)面上；以及第二料口，其將該熔融金屬引導(dǎo)至該溢流槽。
9.如權(quán)利要求8所述的存儲裝置，其中該阻尼件由鋅合金制成。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于富士通株式會社，未經(jīng)富士通株式會社許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710103958.3/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
