[發(fā)明專利]圖案轉(zhuǎn)印設(shè)備、壓印設(shè)備和圖案轉(zhuǎn)印方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710100809.1
• 申請(qǐng)日: 2007-04-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101059650A
• 公開(kāi)（公告）日: 2007-10-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 末平信人;關(guān)淳一;稻秀樹(shù);千德孝一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/00
• 分類號(hào): G03F7/00
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 康建忠

1、一種把在具備對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的印模上形成的壓印圖案轉(zhuǎn)印到具備對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基板上，或者轉(zhuǎn)印到置于基板和印模之間的樹(shù)脂材料上的圖案轉(zhuǎn)印設(shè)備，所述圖案轉(zhuǎn)印設(shè)備包括：

在第一物體位置獲得圖像的第一圖像拾取裝置；和

在與第一物體位置隔開(kāi)的第二物體位置獲得圖像的第二圖像拾取裝置，

其中印模的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和基板的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，或者參考基板的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記可放置在第一物體位置，基板或參考基板的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記可放置在第二物體位置，

其中通過(guò)第一和第二圖像拾取裝置觀察放置在第一和第二物體位置的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，從而獲得與通過(guò)第一和第二圖像拾取裝置觀察的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記之間圖像位置方面的差異有關(guān)的信息，和

其中根據(jù)獲得的信息實(shí)現(xiàn)面內(nèi)方向上印模和基板之間的對(duì)準(zhǔn)，從而把壓印圖案轉(zhuǎn)印到基板或樹(shù)脂材料上。

2、按照權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中通過(guò)比較在第一數(shù)據(jù)位置的參考基板的圖像與在第二物體位置的參考基板的圖像，獲得和圖像位置方面的差異有關(guān)的信息。

3、按照權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，其中第一物體位置和第二物體位置之間的距離等于或大于基板和形成于印模上的壓印圖案通過(guò)樹(shù)脂材料間接相互接觸的距離。

4、按照權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中參考基板具備在其面對(duì)基板的表面上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，和在其面對(duì)印模的表面上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，并且厚度等于第一物體位置和第二物體位置之間的距離。

5、按照權(quán)利要求2或4所述的設(shè)備，其中提供給參考基板的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記被布置在尺寸與印模的圖案區(qū)的尺寸相同的區(qū)域中。

6、按照權(quán)利要求2或4所述的設(shè)備，其中參考基板由形成于印模上的壓印圖案將被轉(zhuǎn)印到其上的基板本身構(gòu)成。

7、按照權(quán)利要求1、2或4所述的設(shè)備，其中通過(guò)在第二物體位置沿面內(nèi)方向?qū)崿F(xiàn)印模和基板之間的對(duì)準(zhǔn)，并使對(duì)準(zhǔn)的印模和基板直接相互接觸，或者通過(guò)樹(shù)脂材料間接相互接觸，壓印圖案可被轉(zhuǎn)印到基板或者樹(shù)脂材料上。

8、按照權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述圖案轉(zhuǎn)印設(shè)備還包括調(diào)整進(jìn)入所述第一和第二圖像拾取裝置的光線的量的光量調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。

9、按照權(quán)利要求8設(shè)備，其中所述光量調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)被這樣構(gòu)成，使得在第一和第二圖像拾取裝置的多個(gè)區(qū)域中，光線的量都是可調(diào)節(jié)的。

10、一種圖案轉(zhuǎn)印方法，用于把在具備對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的印模上形成的壓印圖案轉(zhuǎn)印到具備對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基板上，或者轉(zhuǎn)印到置于基板和印模之間的樹(shù)脂材料上，所述圖案轉(zhuǎn)印方法包括：

通過(guò)把提供給印模的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和提供給參考基板的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記布置在第一物體位置，并通過(guò)第一圖像拾取部分觀察對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，獲得第一圖像的第一步驟；

通過(guò)把提供給參考基板的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記布置在與第一物體位置分開(kāi)的第二物體位置，并通過(guò)第二圖像拾取部分觀察對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，獲得第二圖像的第二步驟；和

通過(guò)使用第一和第二圖像，獲得和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記之間圖像位置方面的差異有關(guān)的信息的第三步驟。

11、按照權(quán)利要求10所述的方法，其中在所述第一步驟中，實(shí)現(xiàn)印模和參考基板之間的對(duì)準(zhǔn)。

12、按照權(quán)利要求10所述的方法，其中在所述第一步驟和所述第二步驟之間，保持參考基板在其面內(nèi)方向上的位置。

13、按照權(quán)利要求10所述的方法，其中在所述第三步驟中，通過(guò)比較第二圖像與布置在第二物體位置的參考基板的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，獲得和圖像位置方面的差異有關(guān)的信息。

14、按照權(quán)利要求10-13任意之一所述的方法，其中提供給參考基板的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記被布置在尺寸與印模的圖案區(qū)的尺寸相同的區(qū)域中。

15、按照權(quán)利要求10-13任意之一所述的方法，其中參考基板由形成于印模上的壓印圖案將被轉(zhuǎn)印到其上的基板本身構(gòu)成。

16、按照權(quán)利要求10-13任意之一所述的方法，其中所述圖案轉(zhuǎn)印方法還包括在所述第三步驟之后，通過(guò)使印模和基板直接相互接觸，或者通過(guò)樹(shù)脂材料間接相互接觸，從而在第一物體位置實(shí)現(xiàn)印模和基板間的對(duì)準(zhǔn)，把壓印圖案轉(zhuǎn)印到基板或者樹(shù)脂材料上的第四步驟。