[發明專利]平面式磁控濺射便攜插件式增磁裝置

無效

• 申請號: 200710099492.4
• 申請日: 2007-05-23
• 公開（公告）號: CN101050520A
• 公開（公告）日: 2007-10-10
• 發明（設計）人: 刁訓剛;王懷義;杜心康;楊海剛;郝維昌;王天民
• 申請（專利權）人: 北京航空航天大學
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京科迪生專利代理有限責任公司
• 代理人: 賈玉忠;盧紀

1、平面式磁控濺射便攜插件式增磁裝置，其特征在于包括：附加中心圓柱形永磁強磁體(1)、附加環形永磁強磁體(2)、內散熱環(3)和外散熱環(4)、陰極罩(5)和陽極罩(6)，附加中心圓柱形永磁強磁體(1)和設備陰極靶位固有的內置中心圓柱形永磁強磁體(8)同極性相互加強對應放置，附加環形永磁強磁體(2)和內置環形永磁強磁體(9)同極性相互加強對應放置；在附加中心圓柱形永磁強磁體(1)和附加環形永磁強磁體(2)之間放置內散熱環(3)，在附加環形永磁強磁體(2)外放置外散熱環(4)；靶材(7)罩有陰極罩(5)和陽極罩(6)，和外散熱環(4)罩有陰極罩(5)和陽極罩(6)，分別用于固定保護靶材(7)和外散熱環(4)；附加中心圓柱形永磁強磁體(1)和附加環形永磁強磁體(2)與陰極靶位平面(10)接觸，不與內散熱環(3)、外散熱環(4)和靶材(7)接觸。

2、根據權利要求1所述的平面式磁控濺射便攜插件式增磁裝置，其特征在于：所述的附加中心圓柱形永磁強磁體(1)和附加環形永磁強磁體(2)的材料為銣鐵硼強磁性材料。

3、根據權利要求1所述的平面式磁控濺射便攜插件式增磁裝置，其特征在于：所述的附加中心圓柱形永磁強磁體(1)的直徑與設備陰極靶位固有內置中心圓柱形永磁強磁體(8)的直徑相同；附加環形永磁強磁體(2)的內徑大于或等于設備陰極靶位固有內置環形永磁強磁體(9)的內徑，附加環形永磁強磁體(2)的外徑小于或等于設備陰極靶位固有內置環形永磁強磁體(9)的外徑。

4、根據權利要求1所述的平面式磁控濺射便攜插件式增磁裝置，其特征在于：所述的附加中心圓柱形永磁強磁體(1)與附加環形永磁強磁體(2)的高度相同且均不小于設備固有的內置中心圓柱形永磁強磁體(8)和內置環形永磁強磁體(9)的高度。

5、根據權利要求1所述的平面式磁控濺射便攜插件式增磁裝置，其特征在于：內散熱環(3)和外散熱環(4)的材料為銅。

6、根據權利要求1所述的平面式磁控濺射便攜插件式增磁裝置，其特征在于：所述的陰極罩(5)和陽極罩(6)的材料均為不銹鋼。