[發明專利]曝光裝置

無效

• 申請號: 200710097944.5
• 申請日: 2007-04-23
• 公開（公告）號: CN101063828A
• 公開（公告）日: 2007-10-31
• 發明（設計）人: 富樫工;宮下正弘
• 申請（專利權）人: 日本精工株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/00;H01L21/027
• 代理公司: 北京泛誠知識產權代理有限公司
• 代理人: 楊本良;文琦

技術領域

本發明涉及一種曝光裝置，具體而言涉及一種制造半導體、液晶顯示面板、等離子顯示器等大型平板面板顯示器時使用的曝光裝置。

背景技術

如圖5所示，在現有的曝光裝置PE100中，通常為了提高生產效率，并列配置多臺(在圖5中為二臺)曝光單元1000A、1000B。該曝光單元1000A、1000B具有可存儲掩模圖案不同的多個掩模M的掩模儲料器102A、102B。和該掩模儲料器102A、102B相鄰配置的掩模裝載機103A、103B從掩模儲料器102A、102B取出預定的掩模M，安裝到掩模臺104A、104B上，或者更換所安裝的掩模M。

但是，在現有的曝光裝置PE100中，每個曝光單元101A、101B中分別配置專用的掩模裝載機103A、103B(根據情況不同，也分別設置掩模儲料器102A、102B)，因此曝光裝置PE100大型化，可能會妨礙工廠等設置空間的有效利用。并且，曝光裝置PE100的制造成本增加。

發明內容

本發明鑒于以上情況而產生，其目的在于提供一種能夠使曝光裝置小型化、有效利用工廠等的設置空間，并且可降低曝光裝置的制造成本的曝光裝置。

本發明的上述目的通過以下構成來實現。

(1)一種曝光裝置，具有多個曝光單元，多個曝光單元具有：保持作為被曝光材料的基板的基板臺；與基板相對配置并保持掩模的掩模臺；通過掩模將圖案曝光用的光照射到基板的照射裝置；以及移動基板臺，使基板與掩模在預定位置相對的基板臺傳送機構，該曝光裝置的特征在于，并列配置有曝光單元，并具有：收容多個掩模的掩模儲料器；以及從掩模儲料器將預定的掩模提供到掩模臺的一臺掩模裝載機。

(2)根據上述(1)所述的曝光裝置，其特征在于，多臺掩模儲料器并列配置，構成掩模庫，一臺掩模裝載機構成為可自由移動至分別與掩模儲料器及曝光單元對應的位置。

根據上述(1)所述的曝光裝置，多個曝光單元并列配置，并且通過一臺掩模裝載機向各曝光單元的掩模臺提供掩模，因此多個曝光單元可共用一臺掩模裝載機。這樣一來，可使曝光裝置小型化，有效利用工廠等設置空間，并降低曝光裝置的制造成本。

根據上述(2)所述的曝光裝置，具有由多臺掩模儲料器構成的掩模庫；及為了對應各掩模儲料器及各曝光單元而可自由移動地構成的一臺掩模裝載機，通過一臺掩模裝載機從掩模庫取出預定的掩模，并將掩模提供到各曝光單元的掩模臺，因此可將多個掩模收容到掩模庫中作準備，易于對應多種掩模圖案。并且，可通過一臺掩模裝載機向多個曝光單元提供掩模，因此可使曝光裝置小型化，有效利用工廠等的設置空間，并降低曝光裝置的制造成本。

根據本發明的曝光裝置，并列配置有曝光單元，并具有：收容多個掩模的掩模儲料器、以及從掩模儲料器將預定的掩模提供給掩模臺的一臺掩模裝載機，因此可通過一臺掩模裝載機向并列配置的多個曝光單元的各掩模臺提供掩模。這樣一來，可使曝光裝置小型化，有效利用工廠等的設置空間，并降低曝光裝置的制造成本。

附圖說明

圖1是說明本發明涉及的曝光裝置的第一實施方式的整體構造的俯視圖。

圖2是圖1所示的曝光單元的主要部分的側視圖。

圖3是圖1所示工件裝載機的側視圖。

圖4是說明本發明涉及的曝光裝置的第二實施方式的整體構造的俯視圖。

圖5是說明現有的曝光裝置的整體構造的俯視圖。

圖6是用于說明本發明涉及的曝光裝置的整體構造的概要俯視圖。

圖7是圖6所示的曝光單元的主要部分的正視圖。

圖8是圖7所示的基板臺的側視圖。

圖9是圖6所示基板裝載機的側視圖。

圖10是用于說明現有的曝光裝置的俯視圖。

具體實施方式

以下對本發明涉及的曝光裝置的各實施方式參照附圖進行詳細說明。

(第一實施方式)

首先參照圖1至圖3說明本發明涉及的曝光裝置的第一實施方式。

圖1是說明本發明涉及的曝光裝置的第一實施方式的整體構造的俯視圖，圖2是圖1所示的曝光單元的主要部分的側視圖，圖3是圖1所示工件裝載機的側視圖。