[發明專利]硬碳膜和硬碳膜滑動構件無效
| 申請號: | 200710097630.5 | 申請日: | 2007-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN101089222A | 公開(公告)日: | 2007-12-19 |
| 發明(設計)人: | 岡本裕介;保田芳輝;山內武 | 申請(專利權)人: | 日產自動車株式會社 |
| 主分類號: | C23C16/27 | 分類號: | C23C16/27 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硬碳膜 滑動 構件 | ||
1.一種硬碳膜,其含有作為主要組分的無定形碳和大于1.4至小于39原子%總量的鈷和/或鎳,其中,當通過透射電子顯微鏡觀察該膜的截面時,被具有超過5nm當量圓直徑的鈷聚集體和鎳聚集體占據的區域小于被在該膜中產生的聚集體所占據的區域的40%。
2.根據權利要求1所述的硬碳膜,其中,當通過透射電子顯微鏡觀察該膜的截面時,被具有超過5nm當量圓直徑的鈷聚集體和鎳聚集體占據的區域小于由被在該膜中產生的聚集體所占據的區域的12%。
3.根據權利要求1所述的硬碳膜,其中,假設,當通過透射電子顯微鏡觀察該膜的截面時,被具有超過5nm當量圓直徑的鈷聚集體和鎳聚集體占據的區域相對于與被在該膜中產生的聚集體占據的區域的比率用X%表示,鈷和/或鎳的總含量用Y%(原子)表示,滿足關系式:X<4Y。
4.一種硬碳膜,其含有作為主要組分的無定形碳和作為次組分的大于1.4至小于39原子%的總量的鈷和/或鎳,并具有通過一層壓一層地堆迭具有相對高的鈷/鎳含量的層和具有相對低的鈷/鎳含量的層形成的疊層結構,其中,在厚度方向,每層由具有相對高的鈷/鎳含量的層和具有相對低的鈷/鎳含量的層組成的疊層數目為每100nm?8層以上。
5.根據權利要求4所述的硬碳膜,其中,在厚度方向,每層由具有相對高的鈷/鎳含量的層和具有相對低的鈷/鎳含量的層組成的疊層數目為每100nm?14層以上。
6.根據權利要求4所述的硬碳膜,其中,在厚度方向,每層由具有相對高的鈷/鎳含量的層和具有相對低的鈷/鎳含量的層組成的疊層數目為每100nm?25層以上。
7.根據權利要求4所述的硬碳膜,其中,通過使用電弧離子電鍍法形成具有相對低的鈷/鎳含量的層。
8.根據權利要求1所述的硬碳膜,其用于潤滑劑。
9.根據權利要求4所述的硬碳膜,其用于潤滑劑。
10.根據權利要求8所述的硬碳膜,其中,該潤滑劑含有添加劑,且該添加劑含有分子內羥基。
11.根據權利要求9所述的硬碳膜,其中,該潤滑劑含有添加劑,且該添加劑含有分子內羥基。
12.根據權利要求1所述的硬碳膜,其中,該潤滑劑是汽車機油。
13.根據權利要求4所述的硬碳膜,其中,該潤滑劑是汽車機油。
14.一種硬碳膜滑動構件,其包含根據權利要求1所述的硬碳膜。
15.一種硬碳膜滑動構件,其包含根據權利要求4所述的硬碳膜。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





