[發(fā)明專利]確認(rèn)維修站及用以標(biāo)記基板為缺陷的方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710096919.5 | 申請(qǐng)日: | 2007-04-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101042356A | 公開(kāi)(公告)日: | 2007-09-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蘇洹漳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日月光半導(dǎo)體制造股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/956 | 分類號(hào): | G01N21/956;G01R31/308;H05K13/06;H05K3/00 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 壽寧;張華輝 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣高雄市*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 確認(rèn) 維修 用以 標(biāo)記 缺陷 方法 | ||
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- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 標(biāo)記裝置及標(biāo)記方法
- 同步數(shù)字體系網(wǎng)絡(luò)標(biāo)記交換的標(biāo)記處理方法
- 標(biāo)記裝置及標(biāo)記方法
- 標(biāo)記頭和標(biāo)記裝置
- 用于通過(guò)標(biāo)記光線標(biāo)記物體的標(biāo)記設(shè)備
- 標(biāo)記裝置以及標(biāo)記方法
- 標(biāo)記系統(tǒng)
- 激光標(biāo)記方法、激光標(biāo)記機(jī)及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 用于標(biāo)記標(biāo)記對(duì)象的標(biāo)記系統(tǒng)
- 標(biāo)記方法及標(biāo)記裝置





