[發明專利]磁共振圖像診斷裝置和靜磁場修正方法有效
| 申請號: | 200710096123.X | 申請日: | 2007-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN101055307A | 公開(公告)日: | 2007-10-17 |
| 發明(設計)人: | 池戶雅人 | 申請(專利權)人: | 株式會社東芝;東芝醫療系統株式會社 |
| 主分類號: | G01R33/20 | 分類號: | G01R33/20;G01R33/38;A61B5/055 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 王以平 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 磁共振 圖像 診斷 裝置 和靜 磁場 修正 方法 | ||
技術領域
本發明涉及具備修正靜磁場的不均勻成分的功能的磁共振圖像診斷 裝置、該磁共振圖像診斷裝置的靜磁場修正方法。
背景技術
在磁共振成像(MRI)中,在各種各樣的攝像法中都要求非常高的 靜磁場均勻性,修正靜磁場的不均勻性的所謂磁場調整(shimming)非 常重要。磁場調整大致區分為被動磁場調整和主動磁場調整。被動磁場 調整通過將鐵片(shim)等配置在靜磁場磁鐵所產生的靜磁場中,來使 攝像區域中的靜磁場均勻。主動磁場調整通過將由磁場調整線圈產生的 修正磁場與靜磁場磁鐵產生的靜磁場重疊,來使攝像區域中的靜磁場均 勻。在近年的磁共振成像中,主動磁場調整非常重要,因此以下說明該 主動磁場調整,并簡記為磁場調整。
可以分為0次成分X0、Y0、Z0、1次成分X1、Y1、Z1、以及2次成 分X2、Y2、Z2、XY、ZY、ZX等各成分地表示靜磁場的不均勻性。也 存在3次或以上更高次的成分。
一般對上述那樣的每個不均勻成分進行磁場調整。其中,由于需要 與所修正的成分一對一對應的磁場調整線圈,所以一般縮小范圍到1次 成分或2次成分地對成分進行修正。
在磁場調整計算中,實際進行用于測量關注區域中的磁場分布的信 號收集,對作為磁場調整對象的每個磁場成分展開磁場分布,求出抵消 靜磁場的不均勻成分的修正磁場。另外,計算出為了產生上述修正磁場 而應該提供給各磁場調整線圈的電流值,即修正值。例如設均勻的磁場 強度的基準值為B0,直到1次成分為止求出磁場分布而進行磁場調整, 進而為了簡化,如果在磁場分布的展開式中,不考慮X方向和Y方向 而只考慮Z方向,則針對直到1次為止展開了磁場分布的結果的公式 C1Z+C0+B0,產生1次成分的修正值為-C1,0次成分的修正值為- C0。
另外,通過特公平3-51172號公報可以知道與磁場調整有關的現有 技術。
但是,由于能夠對磁場調整線圈設置的電流有上限,所以如果磁場 調整的修正值為超過其能夠允許的上限的值,則不能進行適當的修正。 當然,即使在這些情況下,也對磁場分布進行成分展開并計算,因此能 夠求出磁場調整的修正值,但由于是在受到磁場調整線圈的允許電流值 等的制約的影響的情況下計算出的結果,所以求出的修正磁場有可能不 符合實際的磁場分布。
根據這樣的情況,要求能夠得到適當的修正磁場,提高靜磁場均勻 性。
發明內容
本發明的第一形式的磁共振圖像診斷裝置具備:產生靜磁場的產生 部件;測量上述靜磁場的強度分布特性的測量部件;通過將與上述強度 分布特性中的1次~n次(n為2或以上的自然數)的各成分中的一部 分,即特定成分有關的修正量固定為規定量,同時根據上述強度分布特 性求出與上述特定成分以外的成分有關的修正量,來決定與上述1次~ n次的各成分有關的修正量的決定部件;根據上述修正量,產生用于修 正上述靜磁場的修正磁場的修正磁場產生部件。
本發明的第二形式的磁共振圖像診斷裝置具備:產生靜磁場的產生 部件;測量上述靜磁場的強度分布特性的測量部件;通過將與上述強度 分布特性中的1次~n次(n為2或以上的自然數)的各成分中的一部 分,即特定成分有關的修正量固定為規定量,同時根據上述強度分布特 性求出與上述特定成分以外的成分有關的修正量,來決定與上述1次~ n次的各成分有關的修正量的第一決定部件;通過根據上述強度分布特 性,求出分別與上述1次~n次的各成分有關的修正量,來決定與上述 1次~n次的各成分有關的修正量的第二決定部件;如果由上述第一決 定部件決定的修正量沒有超過閾值,則選擇該修正量,在由上述第一決 定部件決定的修正量超過閾值的情況下,針對相同成分選擇由上述第二 決定部件決定的修正量的選擇部件;根據選擇出的上述修正量,產生用 于修正上述靜磁場的修正磁場的修正磁場產生部件。
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