[發明專利]基板的旋轉裝置、磨邊裝置及磨邊方法

無效

• 申請號: 200710096094.7
• 申請日: 2007-04-13
• 公開（公告）號: CN101284365A
• 公開（公告）日: 2008-10-15
• 發明（設計）人: 卓庭義
• 申請（專利權）人: 奇美電子股份有限公司
• 主分類號: B24B9/10
• 分類號: B24B9/10
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 陶鳳波

1、一種基板的旋轉裝置，包括：

輔助支撐單元，具有兩個支撐元件，這些支撐元件相對而設，且這些支撐元件具有第一支撐狀態及第二支撐狀態，當這些支撐元件于該第一支撐狀態時，這些支撐元件相距第一距離，當這些支撐元件于該第二支撐狀態時，這些支撐元件相距第二距離；以及

旋轉支撐單元，具有旋轉元件，該旋轉元件設置于這些支撐元件之間并用以旋轉基板。

2、如權利要求1所述的基板的旋轉裝置，其中該輔助支撐單元具有驅動元件，該驅動元件驅動這些支撐元件移動，以改變這些支撐元件的支撐狀態或改變這些支撐元件與該旋轉元件的相對高度。

3、如權利要求1所述的基板的旋轉裝置，其中這些支撐元件具有多個孔，以噴出氣體而提供支撐該基板的支撐力。

4、如權利要求1所述的基板的旋轉裝置，其中這些支撐元件具有多個孔，以吸進氣體而提供吸附該基板的吸附力。

5、如權利要求1所述的基板的旋轉裝置，其中這些支撐元件分別平行于該基板的兩側邊。

6、如權利要求1所述的基板的旋轉裝置，其中該旋轉支撐單元具有驅動元件，該驅動元件驅動該旋轉元件升降，以改變該旋轉元件與這些支撐元件的相對高度。

7、如權利要求1所述的基板的旋轉裝置，其中該旋轉支撐單元提供吸附力以使該旋轉元件吸附該基板。

8、如權利要求1所述的基板的旋轉裝置，其中這些支撐元件具有多個爪部，以協助支撐該基板。

9、一種基板的磨邊裝置，包括：

輔助支撐單元，具有兩個支撐元件，這些支撐元件相對而設，且這些支撐元件具有第一支撐狀態及第二支撐狀態，當這些支撐元件于該第一支撐狀態時，這些支撐元件相距第一距離，當這些支撐元件于該第二支撐狀態時，這些支撐元件相距第二距離；

旋轉支撐單元，具有旋轉元件，該旋轉元件設置于這些支撐元件之間并用以旋轉基板；以及

磨邊單元，具有至少一磨削元件，該磨削元件鄰設于這些支撐元件其中之一。

10、如權利要求9所述的基板的磨邊裝置，其中該輔助支撐單元具有驅動元件，該驅動元件驅動這些支撐元件移動，以改變這些支撐元件的支撐狀態或改變這些支撐元件與該旋轉元件的相對高度。

11、如權利要求9所述的基板的磨邊裝置，其中這些支撐元件具有多個孔，以噴出氣體而提供支撐該基板的支撐力。

12、如權利要求9所述的基板的磨邊裝置，其中這些支撐元件具有多個孔，以吸進氣體而提供吸附該基板的吸附力。

13、如權利要求9所述的基板的磨邊裝置，其中這些支撐元件分別平行于該基板的兩側邊。

14、如權利要求9所述的基板的磨邊裝置，其中該旋轉支撐單元具有驅動元件，該驅動元件驅動該旋轉元件升降，以改變該旋轉元件與這些支撐元件的相對高度。

15、如權利要求9所述的基板的磨邊裝置，其中該旋轉支撐單元提供吸附力以使該旋轉元件吸附該基板。

16、如權利要求9所述的基板的磨邊裝置，其中該磨邊單元還包括驅動元件，該驅動元件驅動該磨削元件磨削該基板邊緣。

17、如權利要求9所述的基板的磨邊裝置，其中這些支撐元件具有多個爪部，以協助支撐該基板。

18、一種基板的磨邊方法，包括：

磨邊程序，磨削基板的邊緣；

解負載程序，改變旋轉支撐單元的旋轉元件與輔助支撐單元的兩個支撐元件的相對高度；

氣體噴射程序，通過這些支撐元件噴射氣體以提供支撐該基板的支撐力；

旋轉程序，通過該旋轉元件旋轉該基板；

支撐元件定位程序，驅動這些支撐元件移動，使這些支撐元件由第一支撐狀態改變為第二支撐狀態；以及

重新負載程序，回復該旋轉元件及這些支撐元件的相對高度。

19、如權利要求18所述的基板的磨邊方法，其中該磨邊程序通過磨邊單元的磨削元件磨削該基板邊緣。