[發(fā)明專利]感光性組合物及顯示裝置用遮光膜無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710096075.4 | 申請日: | 2007-04-10 |
| 公開(公告)號: | CN101071264A | 公開(公告)日: | 2007-11-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 中村秀之;宮宅一仁 | 申請(專利權(quán))人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/00 | 分類號: | G03F7/00;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 朱丹 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 感光性 組合 顯示裝置 遮光 | ||
1.一種感光性組合物,其特征在于,其至少包含:(A)金屬粒子或具有金屬的粒子、(B)選自由氨基苯乙酮、酰基氧化膦及肟酯構(gòu)成的群組的至少1種光聚合引發(fā)劑、(C)樹脂及其前體的至少一種。
2.如權(quán)利要求1所述的感光性組合物,其特征在于,其還包含(D)光聚合引發(fā)輔助劑。
3.如權(quán)利要求1所述的感光性組合物,其特征在于,所述(A)金屬粒子或具有金屬的粒子的至少一種是具有銀錫合金部的粒子。
4.如權(quán)利要求1所述的感光性組合物,其特征在于,所述(A)金屬粒子或具有金屬的粒子的數(shù)均粒徑為0.1μm以下。
5.一種感光性轉(zhuǎn)印材料,其在臨時支持體上具有使用權(quán)利要求1所述的感光性組合物而成的感光性組合物層。
6.一種顯示裝置用遮光膜的形成方法,其至少具有將權(quán)利要求1所述的感光性組合物涂敷在基板上的工序。
7.一種顯示裝置用遮光膜的形成方法,其至少具有將權(quán)利要求5所述的感光性轉(zhuǎn)印材料的感光性組合物層轉(zhuǎn)印在基板上的工序。
8.一種顯示裝置用遮光膜,其特征在于,其使用權(quán)利要求1~4中任一項所述的感光性組合物而形成。
9.一種黑矩陣,其是利用權(quán)利要求8所述的顯示裝置用遮光膜形成的。
10.一種帶有遮光膜的基板,其特征在于,其具備:基板、和設(shè)置在所述基板上的權(quán)利要求8所述的顯示裝置用遮光膜。
11.如權(quán)利要求10所述的帶有遮光膜的基板,其特征在于,其用于濾色片的制作。
12.一種顯示裝置,其特征在于,其具備權(quán)利要求10所述的帶有遮光膜的基板。
13.一種顯示裝置,其特征在于,其具備權(quán)利要求11所述的帶有遮光膜的基板。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
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