[發明專利]具有擴展性的RFCMOS模型的參數計算方法有效
| 申請號: | 200710094514.8 | 申請日: | 2007-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN101458722A | 公開(公告)日: | 2009-06-17 |
| 發明(設計)人: | 武潔;李平梁 | 申請(專利權)人: | 上海華虹NEC電子有限公司 |
| 主分類號: | G06F17/50 | 分類號: | G06F17/50 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產權代理有限公司 | 代理人: | 陳 平 |
| 地址: | 201206上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 擴展性 rfcmos 模型 參數 計算方法 | ||
1.一種RFCMOS模型的參數計算方法,所述RFCMOS模型在BSIM3v3模型中的MOS場效應管的基礎上增加了支電路,所述支電路包括柵極的寄生電阻、源極的寄生電阻、漏極的寄生電阻和襯底網絡,所述襯底網絡包括源極和襯底間的寄生二極管、漏極和襯底間的寄生二極管、源極和襯底間的耦合電阻、漏極和襯底間的耦合電阻、襯底的耦合電阻,其特征是:所述柵極的寄生電阻、源極和襯底間的寄生二極管、漏極和襯底間的寄生二極管、源極和襯底間的耦合電阻、漏極和襯底間的耦合電阻、襯底的耦合電阻均由可變參數計算得出,所述可變參數至少包括晶體管溝道長度、溝道寬度或并聯柵極數中的一個;
柵極的寄生電阻其中Rgsqr為RG的方塊電阻,ρc為單位面積的接觸孔電阻;
源極和襯底間的耦合電阻其中Rsbw為RSB的方塊電阻;
漏極和襯底間的耦合電阻其中Rdbw為RDB的方塊電阻;
襯底的耦合電阻其中Rdsbw為RDSB的方塊電阻;
所述L為晶體管溝道長度,W為晶體管溝道寬度,nf為晶體管并聯柵極數。
2.根據權利要求1所述的RFCMOS模型的參數計算方法,其特征是:所述源極的寄生電阻和漏極的寄生電阻均由BSIM3v3模型的參數Rdsw計算得出,參數Rdsw表示單位寬度的源漏寄生電阻。
3.根據權利要求1所述的RFCMOS模型的參數計算方法,其特征是:
源極位于兩個相鄰柵極之間的個數nsd_in的二進制數形式xnsd_in=[(xnf+1)>>1]-1;
漏極位于兩個相鄰柵極之間的個數ndd_in的二進制數形式xndd_in=xnf>>1;
漏極位于器件最外側的個數ndd_out的二進制數形式xndd_out=xnf&1;
源極位于器件最外側的個數nsd_out的二進制數形式xnsd_out=2-(xnf&1),其中&運算符表示二進制數的與運算;
所述xnf表示nf的二進制數形式,其中>>運算符表示將二進制數右移,左邊的空位由0彌補。
4.根據權利要求3所述的RFCMOS模型的參數計算方法,其特征是:
源極和襯底間的寄生二極管的有源區一側周長dsb_perim_locos=4×hdif×nsd_in+nsd_out×(4×hdif+W),其中hdif為BSIM3v3模型的參數,參數hdif表示接觸孔中心到柵極邊緣的距離;
源極和襯底間的寄生二極管的柵極一側周長dsb_perim_gate=(2×nsd_in+nsd_out)×W;
源極和襯底間的寄生二極管的PN結底面面積dsb_area=2×hdif×W×(nsd_in+nsd_out);
源極和襯底間的寄生二極管的源極飽和電流js_sb=dsb_area×js+dsb_perim_locos×jsw,其中js和jsw都是BSIM3v3模型的參數,參數js表示源極或漏極PN結底面單位面積飽和電流,參數jsw表示側壁飽和電流密度;
源極和襯底間的寄生二極管的源極底面零偏壓結電容cj_sb=dsb_area×cj,其中cj是BSIM3v3模型的參數,參數cj表示PN結單位面積的底面零偏壓結電容;
源極和襯底間的寄生二極管的源極側壁零偏壓結電容cjsw_sb=(dsb_perim_locos×cjsw+dsb_perim_gate×cjswg),其中cjsw和cjswg都是BSIM3v3模型的參數;參數cjsw表示源極或漏極單位長度的側壁在有源區一側的零偏壓結電容,參數cjswg表示源極或漏極單位長度的側壁在柵極一側的零偏壓結電容。
5.根據權利要求3所述的RFCMOS模型的參數計算方法,其特征是:
漏極和襯底間的寄生二極管的有源區一側周長ddb_perim_locos=4×hdif×ndd_in+ndd_out×(4×hdif+W),其中hdif為BSIM3v3模型的參數,參數hdif表示接觸孔中心到柵極邊緣的距離;
漏極和襯底間的寄生二極管的柵極一側周長ddb_perim_gate=(2×ndd_in+ndd_out)×W;
漏極和襯底間的寄生二極管的PN結底面面積ddb_area=2×hdif×W×(ndd_in+ndd_out);
漏極和襯底間的寄生二極管的漏極飽和電流js_db=ddb_area×js+ddb_perim_locos×jsw,其中js和jsw都是BSIM3v3模型的參數,參數js表示源極或漏極PN結底面單位面積飽和電流,參數jsw表示側壁飽和電流密度;
漏極和襯底間的寄生二極管的漏極底面零偏壓結電容cj_db=ddb_area×cj,其中cj是BSIM3v3模型的參數,參數cj表示PN結單位面積的底面零偏壓結電容;
漏極和襯底間的寄生二極管的漏極側壁零偏壓結電容cjsw_db=(ddb_perim_locos×cjsw+ddb_perim_gate×cjswg),其中cjsw和cjswg都是BSIM3v3模型的參數;參數cjsw表示源極或漏極單位長度的側壁在有源區一側的零偏壓結電容,參數cjswg表示源極或漏極單位長度的側壁在柵極一側的零偏壓結電容。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海華虹NEC電子有限公司,未經上海華虹NEC電子有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710094514.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:超臨界二氧化碳提取洋蔥籽油的方法
- 下一篇:無機納米涂料及其制備方法





