[發明專利]單源多漏的MOS器件有效
| 申請號: | 200710094395.6 | 申請日: | 2007-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN101452936A | 公開(公告)日: | 2009-06-10 |
| 發明(設計)人: | 董科;張博;徐云 | 申請(專利權)人: | 上海華虹NEC電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/088 | 分類號: | H01L27/088 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產權代理有限公司 | 代理人: | 陳 平 |
| 地址: | 201206上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 單源多漏 mos 器件 | ||
1.?一種單源多漏的MOS器件,所述MOS器件包括源極、柵極和漏極, 其特征是:所述源極在襯底上的投影為多邊形,所述柵極包圍在源極四周 且所述柵極外圍在襯底上的投影為多邊形,所述漏極有多個且各自獨立, 所述漏極分布在柵極四周。
2.?根據權利要求1所述的單源多漏的MOS器件,其特征是:所述源極 和柵極外圍在襯底上的投影為具有相同數目的邊的多邊形。
3.?根據權利要求2所述的單源多漏的MOS器件,其特征是:所述漏極 的個數等于所述源極在襯底上的投影的多邊形所具有的邊數。
4.?根據權利要求2所述的單源多漏的MOS器件,其特征是:所述多邊 形均為正多邊形。
5.?根據權利要求4所述的單源多漏的MOS器件,其特征是:所述多邊 形均為正方形或正六邊形。
6.?根據權利要求1所述的單源多漏的MOS器件,其特征是:所述MOS 器件的源極、柵極和任意一個漏極均構成一個MOS晶體管,所述MOS器件 根據所述漏極的個數構成多個MOS晶體管。
7.?根據權利要求6所述的單源多漏的MOS器件,其特征是:所述MOS 器件所構成的多個MOS晶體管具有相同的源極和柵極。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





