[發明專利]投影式光刻機

有效

• 申請號: 200710094390.3
• 申請日: 2007-12-06
• 公開（公告）號: CN101452212A
• 公開（公告）日: 2009-06-10
• 發明（設計）人: 陳福成;王雷
• 申請（專利權）人: 上海華虹NEC電子有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司
• 代理人: 丁紀鐵

1.一種投影式光刻機，其光學系統包括特定的激光光源、光闌、聚光透鏡、掩模版、投影透鏡，激光光源發出的光通過光闌、聚光透鏡和掩模版并經過投影透鏡射向晶片，其特征在于，在掩模版和投影透鏡之間還包括四個全反射鏡：第一個全反射鏡的反射面與掩模版平面相對且呈45度夾角，它接受從掩模版平面上出射的光線；第二個全反射鏡的反射面與第一個全反射鏡的反射面相對，且與第一個全反射鏡平行，它接受從第一個全反射鏡面反射出的光線；第三個全反射鏡的反射面與第二個全反射鏡的反射面相對且成90度夾角，它接受第三個全反射鏡反射出的光線；第四個全反射鏡的反射面與第三個全反射鏡的反射面相對，且與第三個全反射鏡平行，它接受第三個全反射鏡的反射光，并將該光線反射從而照射到投影透鏡上，上述第二個全反射鏡和第三個全反射鏡可以同時在與掩模版平行的方向作平移。

2.根據權利要求2所述的投影式光刻機，其特征在于，第二個全反射鏡和第三個全反射鏡在與掩模版平行的方向所作的平移量精確到微米。