[發(fā)明專利]光刻顯影的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710094285.X | 申請日： | 2007-11-27 |
| 公開（公告）號： | CN101446765A | 公開（公告）日： | 2009-06-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陳華倫;羅嘯;陳雄斌;熊濤;陳瑜 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海華虹NEC電子有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F7/40;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海浦一知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 丁紀(jì)鐵 |
| 地址： | 201206上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光刻 顯影 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1、一種光刻顯影的方法，包括在曝光和硬烘，其特征在于：所述曝光后光刻膠圖形的特征尺寸比目標(biāo)值小；所述硬烘時，將硬烤溫度提高至使得硬烘后的光刻膠圖形間隙的特征尺寸在目標(biāo)值范圍內(nèi)。
2、按照權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：所述曝光后光刻膠圖形的特征尺寸比目標(biāo)值小1％～30％。
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
