[發明專利]監控閃存擦寫性能的方法有效
| 申請號: | 200710094056.8 | 申請日: | 2007-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN101377958A | 公開(公告)日: | 2009-03-04 |
| 發明(設計)人: | 張會銳;曹剛 | 申請(專利權)人: | 上海華虹NEC電子有限公司 |
| 主分類號: | G11C29/00 | 分類號: | G11C29/00 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產權代理有限公司 | 代理人: | 顧繼光 |
| 地址: | 201206上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 監控 閃存 擦寫 性能 方法 | ||
1.一種監控閃存擦寫性能的方法,其特征在于,采用縮緊規格的方法進行擦寫性能測試,包括如下步驟:
(1)在擦寫性能測試程序中設立一個較嚴的規格,使其大于實際使用規格;
(2)對每個測試對象記錄在步驟(1)設立的規格下擦寫1次時失效的擦寫次數和重復擦寫2次仍失效時的擦寫次數;
(3)計算每個測試對象在步驟(2)中兩個記錄的擦寫次數的比值,對該比值進行數據處理,用該比值來監控擦寫性能;所述的對該比值進行數據處理具體為:對該比值做對數正態的分布,并比較該對數正態的分布與基準晶片的分布,比較分布的均值和斜率。
2.如權利要求1所述的監控閃存擦寫性能的方法,其特征在于,步驟(1)中,所述設立的較嚴的規格為存儲單元電流下降到初始值的75%。
3.如權利要求1所述的監控閃存擦寫性能的方法,其特征在于,所述的比較該對數正態的分布與基準晶片的分布主要通過如下步驟:首先,得到基準晶片的對數正態的分布,提取兩個分布參數均值和斜率,作為以后監控的參考值,根據該分布,確定均值的分布范圍和斜率的分布范圍;然后,得到監控晶片的對數正態的分布,看其均值和斜率是否在上述基準晶片確定的均值和斜率分布范圍內,如果是,則符合基準標準,如果否,則需要繼續分析是否符合基準標準。
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