[發(fā)明專利]光刻裝置及器件制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710092076.1 | 申請日： | 2007-04-06 |
| 公開（公告）號： | CN101051188A | 公開（公告）日： | 2007-10-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | M·維克曼斯;M·A·W·崔帕斯;F·E·德瓊格;E·A·M·范岡佩爾;R·詹森;G·A·A·M·庫斯特斯;T·P·M·卡迪;M·F·P·斯米茨;F·范德穆倫;W·F·J·西蒙斯;M·H·A·利恩德斯;J·J·奧坦斯;M·范巴倫 | 申請（專利權(quán)）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 范曉斌;劉華聯(lián) |
| 地址： | 荷蘭費*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光刻 裝置 器件 制造 方法 | ||
1.一種光刻裝置，其將圖案從構(gòu)圖部件投影到基底上，該光刻裝置包 括一物體，該物體包括調(diào)節(jié)系統(tǒng)，該調(diào)節(jié)系統(tǒng)用于保持調(diào)節(jié)流體并調(diào)節(jié)該 物體，其中，該調(diào)節(jié)系統(tǒng)包括：
調(diào)節(jié)流體供給裝置，該調(diào)節(jié)流體供給裝置用于將該調(diào)節(jié)流體輸送至所 述物體；和/或調(diào)節(jié)流體去除裝置，該調(diào)節(jié)流體去除裝置用于將該調(diào)節(jié)流體 輸送離開所述物體；
壓力阻尼器，該壓力阻尼器與調(diào)節(jié)流體供給裝置和/或調(diào)節(jié)流體去除裝 置成流體連通，并且布置成可抑制該調(diào)節(jié)系統(tǒng)內(nèi)的壓力變化和/或使得所 述物體內(nèi)部的調(diào)節(jié)流體不受所述物體外部的調(diào)節(jié)流體的影響；
所述壓力阻尼器包括殼體，該殼體具有由一活動元件隔開的兩個隔室， 其中一個隔室連接至該調(diào)節(jié)流體供給裝置或調(diào)節(jié)流體去除裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其特征在于，所述活動元件是柔 性隔膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其特征在于，所述活動元件是活 動活塞。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其特征在于，另一個隔室容納有 可壓縮介質(zhì)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的光刻裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié) 系統(tǒng)構(gòu)造成使得調(diào)節(jié)流體至少部分地在所述物體周圍的回路中循環(huán)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光刻裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié)系統(tǒng)包括 安裝至所述物體的泵，用于圍繞所述回路泵送調(diào)節(jié)流體。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光刻裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié)系統(tǒng)還包 括安裝至所述物體的加熱器或冷卻器，用于調(diào)節(jié)所述調(diào)節(jié)流體。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光刻裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié)系統(tǒng)還包 括：用于從所述物體的外部向所述回路添加調(diào)節(jié)流體的導(dǎo)管，以及用于將 調(diào)節(jié)流體從所述回路移除到所述物體外部的導(dǎo)管。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的光刻裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié) 系統(tǒng)還包括至少一個限流器，所述限流器處于所述調(diào)節(jié)系統(tǒng)中的調(diào)節(jié)流體 流路中。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光刻裝置，其特征在于，所述限流器處于 所述物體內(nèi)的一部分所述流路中。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光刻裝置，其特征在于，所述限流器在所 述流路中定位在調(diào)節(jié)流體進入和/或離開所述物體的位置處或該位置附 近。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光刻裝置，其特征在于，還包括用于泵送 調(diào)節(jié)流體的泵，所述泵定位在所述流路的一部分中，在使用時，調(diào)節(jié)流體 在該部分流路中流出所述物體。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光刻裝置，其特征在于，所述泵是容積泵。
14.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的光刻裝置，其特征在于，還包括位 于調(diào)節(jié)流體流路中的兩個泵，所述兩個泵中的第一泵在所述流路中定位在 在使用中調(diào)節(jié)流體流向所述物體的位置處，所述兩個泵中的第二泵在所述 流路中定位在在使用中調(diào)節(jié)流體流出所述物體的位置處。
15.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任何一項所述的裝置，其特征在于，所述物體 是用于保持基底的基底臺或用于保持掩模的掩模臺或用于基底臺的載體之 一。
16.一種光刻裝置，其將圖案從構(gòu)圖部件投影到基底上，該光刻裝置包 括用于保持基底的基底臺，該基底臺包括調(diào)節(jié)系統(tǒng)，該調(diào)節(jié)系統(tǒng)用于保持 調(diào)節(jié)流體并調(diào)節(jié)該基底臺，其中，該調(diào)節(jié)系統(tǒng)包括：
調(diào)節(jié)流體供給裝置，用于將調(diào)節(jié)流體輸送至該基底臺；
調(diào)節(jié)流體去除裝置，用于將調(diào)節(jié)流體輸送離開該基底臺；
與該供給裝置成流體連通的第一壓力阻尼器以及與該去除裝置成流體 連通的第二壓力阻尼器，這些壓力阻尼器布置成可抑止該調(diào)節(jié)系統(tǒng)內(nèi)的壓 力變化和/或使得所述基底臺內(nèi)的調(diào)節(jié)流體不受所述基底臺外部的調(diào)節(jié)流 體的影響；
所述壓力阻尼器包括殼體，該殼體具有由一活動元件隔開的兩個隔室， 其中一個隔室連接至該調(diào)節(jié)流體供給裝置或調(diào)節(jié)流體去除裝置。
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