[發明專利]測量、曝光裝置及方法、調整方法以及器件制造方法無效
| 申請號： | 200710091463.3 | 申請日： | 2007-03-30 |
| 公開（公告）號： | CN101046639A | 公開（公告）日： | 2007-10-03 |
| 發明（設計）人： | 鹽出吉宏 | 申請（專利權）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 吳麗麗 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 測量 曝光 裝置 方法 調整 以及 器件 制造 | ||
【說明書】：
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