[發(fā)明專利]微波等離子體處理裝置及其制造方法、等離子體處理方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710091321.7 | 申請(qǐng)日： | 2007-03-29 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN101048029A | 公開（公告）日： | 2007-10-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 堀口貴弘 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | H05H1/46 | 分類號(hào)： | H05H1/46;H05H1/30;H01L21/3205;H01L21/00;H01L21/02;H01J37/32;C23C16/511;C23C16/517 |
| 代理公司： | 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 龍淳 |
| 地址： | 日本*** | 國(guó)省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 微波 等離子體 處理 裝置 及其 制造 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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