[發(fā)明專利]光源、光源控制方法及光源更換方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710091076.X
• 申請(qǐng)日: 2007-04-06
• 公開（公告）號(hào): CN101052257A
• 公開（公告）日: 2007-10-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 關(guān)川和成
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 新光電氣工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H05B33/08
• 分類號(hào): H05B33/08;H05B37/02;G03F7/20
• 代理公司: 北京市中咨律師事務(wù)所
• 代理人: 李崢;楊曉光

1.一種光源控制方法，其控制構(gòu)成為具有多個(gè)激光二極管的光源的整體的發(fā)光輸出，其特征在于，包括：

生成步驟，按照每一個(gè)包括所述激光二極管和控制該激光二極管的發(fā)光輸出的該激光二極管專用的控制板的組，預(yù)先生成校正數(shù)據(jù)，該校正數(shù)據(jù)規(guī)定了用于驅(qū)動(dòng)所述控制板的控制值和所述控制板根據(jù)該控制值進(jìn)行驅(qū)動(dòng)時(shí)的所述激光二極管的實(shí)際發(fā)光輸出的測(cè)定值的對(duì)應(yīng)關(guān)系；和

控制步驟，根據(jù)所述每個(gè)組的所述校正數(shù)據(jù)控制所述光源的整體的發(fā)光輸出。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源控制方法，其特征在于，還包括調(diào)整步驟，調(diào)整各個(gè)所述控制板的電路參數(shù)，使所述控制板根據(jù)規(guī)定的所述控制值進(jìn)行驅(qū)動(dòng)時(shí)的所述激光二極管的實(shí)際發(fā)光輸出，對(duì)于構(gòu)成所述光源的所有所述激光二極管相同或接近。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光源控制方法，其特征在于，所述光源用于通過在相對(duì)移動(dòng)的曝光對(duì)象物的曝光面上直接曝光形成所期望的曝光圖形的直接曝光裝置中產(chǎn)生對(duì)所述曝光面上進(jìn)行曝光的光。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光源控制方法，其特征在于，所述直接曝光裝置是下面所述的裝置，即，使來自所述光源的光照射數(shù)字微鏡設(shè)備，使在該數(shù)字微鏡設(shè)備中反射的光照射在相對(duì)該數(shù)字微鏡設(shè)備進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)的曝光對(duì)象物的曝光面上，由此在所述曝光面上形成所期望的曝光圖形，

構(gòu)成所述光源的各個(gè)所述激光二極管被控制成使得所述光源向所述數(shù)字微鏡設(shè)備的照射面上照射均勻的光。

5.一種光源更換方法，是在構(gòu)成為具有多個(gè)激光二極管的光源中，更換所述多個(gè)激光二極管中任一個(gè)的光源更換方法，其特征在于，

把所述要更換的激光二極管和控制該要更換的激光二極管的發(fā)光輸出的該要更換的激光二極管專用的控制板，更換為新的激光二極管和控制該新的激光二極管的發(fā)光輸出的該新的激光二極管專用的新的控制板，并且，

把按照每一個(gè)包括所述激光二極管和控制該激光二極管的發(fā)光輸出的該激光二極管專用的控制板的組、規(guī)定了用于驅(qū)動(dòng)所述控制板的控制值和所述控制板根據(jù)該控制值進(jìn)行驅(qū)動(dòng)時(shí)的所述激光二極管的實(shí)際發(fā)光輸出的測(cè)定值的對(duì)應(yīng)關(guān)系、并用于控制所述光源的整體的發(fā)光輸出的各個(gè)校正數(shù)據(jù)中、用于控制所述要更換的激光二極管的發(fā)光輸出的所述校正數(shù)據(jù)，更換為用于規(guī)定包括所述新的激光二極管和控制該新的激光二極管的發(fā)光輸出的該新的激光二極管專用的新的控制板的組的所述校正數(shù)據(jù)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光源更換方法，其特征在于，預(yù)先調(diào)整各個(gè)所述控制板的電路參數(shù)并生成所述校正數(shù)據(jù)，使得所述控制板根據(jù)規(guī)定的所述控制值進(jìn)行驅(qū)動(dòng)時(shí)的所述激光二極管的實(shí)際發(fā)光輸出，對(duì)于構(gòu)成所述光源的所有所述激光二極管相同或接近。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的光源更換方法，其特征在于，所述光源用于通過在相對(duì)移動(dòng)的曝光對(duì)象物的曝光面上直接曝光形成所期望的曝光圖形的直接曝光裝置中產(chǎn)生對(duì)所述曝光面上進(jìn)行曝光的光。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光源更換方法，其特征在于，所述直接曝光裝置是下面所述的裝置，即，使來自所述光源的光照射數(shù)字微鏡設(shè)備，使在該數(shù)字微鏡設(shè)備中反射的光照射在相對(duì)該數(shù)字微鏡設(shè)備進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)的曝光對(duì)象物的曝光面上，由此在所述曝光面上形成所期望的曝光圖形，

各個(gè)所述激光二極管是被控制成使得所述光源向所述數(shù)字微鏡設(shè)備的照射面上照射均勻的光的激光二極管。

9.一種光源，其構(gòu)成為具有多個(gè)激光二極管，其特征在于，

所述光源的整體的發(fā)光輸出根據(jù)校正數(shù)據(jù)被控制，該校正數(shù)據(jù)預(yù)先按照每一個(gè)包括所述激光二極管和控制該激光二極管的發(fā)光輸出的該激光二極管專用的控制板的組而生成，規(guī)定了用于驅(qū)動(dòng)所述控制板的控制值和所述控制板根據(jù)該控制值進(jìn)行驅(qū)動(dòng)時(shí)的所述激光二極管的實(shí)際發(fā)光輸出的測(cè)定值的對(duì)應(yīng)關(guān)系。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光源，其特征在于，調(diào)整各個(gè)所述控制板的電路參數(shù)使得所述控制板根據(jù)規(guī)定的所述控制值進(jìn)行驅(qū)動(dòng)時(shí)的所述激光二極管的實(shí)際發(fā)光輸出對(duì)于構(gòu)成所述光源的所有所述激光二極管相同或接近。

11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的光源，其特征在于，所述光源用于通過在相對(duì)移動(dòng)的曝光對(duì)象物的曝光面上直接曝光形成所期望的曝光圖形的直接曝光裝置中產(chǎn)生對(duì)所述曝光面上進(jìn)行曝光的光。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光源，其特征在于，所述直接曝光裝置是下面所述的裝置，即，使來自所述光源的光照射數(shù)字微鏡設(shè)備，使在該數(shù)字微鏡設(shè)備中反射的光照射在相對(duì)該數(shù)字微鏡設(shè)備進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)的曝光對(duì)象物的曝光面上，由此在所述曝光面上形成所期望的曝光圖形，

構(gòu)成所述光源的各個(gè)所述激光二極管被控制成使得所述光源向所述數(shù)字微鏡設(shè)備的照射面上照射均勻的光。