[發(fā)明專(zhuān)利]一種圓形陰極表面弧斑受程控復(fù)合磁場(chǎng)控制的蒸發(fā)離化源無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710090254.7 | 申請(qǐng)日: | 2007-04-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101289737A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-10-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王殿儒;金佑民 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 王殿儒 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/32 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/32 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 100095北京市海淀*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 圓形 陰極 表面 弧斑受 程控 復(fù)合 磁場(chǎng) 控制 蒸發(fā) 離化源 | ||
1.一種采用程控復(fù)合磁場(chǎng),即按設(shè)定程序調(diào)整的電磁場(chǎng)和永久磁場(chǎng)疊加成程控復(fù)合磁場(chǎng),來(lái)控制弧斑運(yùn)動(dòng)的蒸發(fā)離化源,其特征是圓形陰極表面上以圓形表面中心為軸心的環(huán)狀弧斑呈現(xiàn)直徑不斷擴(kuò)大或收縮的環(huán)狀弧斑軌跡,使弧斑對(duì)表面燒蝕均勻。
又由于環(huán)狀弧斑的擴(kuò)大或收縮速率受設(shè)定程序調(diào)整的電磁場(chǎng)和永久磁場(chǎng)疊加成程控復(fù)合磁場(chǎng)的控制,可調(diào)節(jié)到使該速率限制在較低速范圍內(nèi),也可調(diào)節(jié)到在需要多些燒蝕的徑向位置上令弧斑多些時(shí)間逗留,從而使蒸發(fā)離化的金屬粒子細(xì)化,并使陰極表面上燒蝕均勻。
2.根據(jù)權(quán)利要求1,一種圓形陰極表面弧斑受程控復(fù)合磁場(chǎng)控制的蒸發(fā)離化源,其特征是可調(diào)電磁場(chǎng)由電磁線(xiàn)圈輸入可調(diào)電流產(chǎn)生,可調(diào)電流的調(diào)整規(guī)律由設(shè)計(jì)的模塊給出。
3.根據(jù)權(quán)利要求1,一種圓形陰極表面弧斑受程控復(fù)合磁場(chǎng)控制的蒸發(fā)離化源,其特征是可調(diào)電磁場(chǎng)與永久磁場(chǎng)疊加成程控復(fù)合磁場(chǎng),設(shè)定程序調(diào)整的電磁場(chǎng)的極性與永久磁場(chǎng)的極性一致疊加或相反疊加均可,模塊中的設(shè)定程序按如下要求設(shè)計(jì):當(dāng)程控復(fù)合磁場(chǎng)的調(diào)整規(guī)律隨時(shí)間周期地增加和減少時(shí),程控復(fù)合磁場(chǎng)的大小和分布也相應(yīng)發(fā)生變化,總的會(huì)使圓形陰極表面燒蝕均勻,并使蒸發(fā)液滴細(xì)化達(dá)到最佳,數(shù)量最少。
4.根據(jù)權(quán)利要求1,一種圓形陰極表面弧斑受程控復(fù)合磁場(chǎng)控制的蒸發(fā)離化源,其特征是依據(jù)陰極材料是鈦、鋯、鋁、銅、不銹鋼,弧電流在小于30A范圍內(nèi),使蒸發(fā)離化源適用于多種金屬材料的陰極。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于王殿儒,未經(jīng)王殿儒許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710090254.7/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





