[發明專利]光盤裝置和用于其的記錄功率的修正方法

無效

• 申請號: 200710089101.0
• 申請日: 2007-03-19
• 公開（公告）號: CN101118753A
• 公開（公告）日: 2008-02-06
• 發明（設計）人: 星倫哉;西館光浩
• 申請（專利權）人: 日立樂金資料儲存股份有限公司
• 主分類號: G11B7/0045
• 分類號: G11B7/0045;G11B7/125
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司
• 代理人: 龍淳

1.一種光盤裝置，其對于在信息記錄面上形成由螺旋狀的凸區和凹槽構成的軌道、對在用戶數據記錄區域中的缺陷塊進行驗證處理的光盤，進行信息的記錄或再現，其特征在于，具有：

盤電動機，旋轉驅動光盤；

盤電動機驅動模塊，驅動所述盤電動機；

光拾取器，具有對由所述盤電動機旋轉驅動的所述光盤的記錄表面照射光的激光光源，并且接收其反射光，對該光盤的記錄表面進行數據的記錄或再現；

激光驅動模塊，用于驅動所述光拾取器的激光光源；

滑動電動機，使所述光拾取器向光盤的半徑方向移動；

滑動電動機驅動模塊，驅動所述滑動電動機；

β值檢測模塊，用于檢測決定從所述光拾取器照射的光的強度的β值；

控制模塊，用于根據來自所述光拾取器和所述β值檢測模塊的信號，至少對所述盤電動機驅動模塊、滑動電動機驅動模塊以及所述激光驅動模塊進行控制，

其中，所述控制模塊從由所述光拾取器再現后的再現信號，獲得由從該光拾取器照射的光寫入的數據的錯誤信息，并且以所述驗證處理時檢測出的β值和錯誤信息為基礎，對從所述光拾取器的激光光源照射的光的強度進行修正。

2.如權利要求1所述的光盤裝置，其特征在于：

所述控制模塊在每個所述凸區和凹槽中獲得所述β值和所述錯誤信息，而且在每個所述凸區和凹槽中，對從所述光拾取器的激光光源照射的光的強度進行修正。

3.如權利要求1所述的光盤裝置，其特征在于：

所述控制模塊從所述獲得的β值獲得其統計信息，根據該統計信息對從所述光拾取器的激光光源照射的光的強度進行修正。

4.如權利要求3所述的光盤裝置，其特征在于：

所述控制模塊通過得到的β值的平均化處理獲得所述統計信息。

5.如權利要求1所述的光盤裝置，其特征在于：

所述控制模塊通過變更所述β值，對從所述光拾取器的激光光源照射的光的強度進行修正。

6.一種光盤裝置的記錄功率的修正方法，其中光盤裝置對于在信息記錄面上形成由螺旋狀的凸區和凹槽構成的軌道、對在用戶數據記錄區域中的缺陷塊進行驗證處理的光盤，進行信息的記錄或再現，其特征在于：

在所述驗證處理時，從由光拾取器再現后的再現信號，獲得由從該光拾取器照射的光寫入的數據的錯誤信息，并且以所述驗證處理時檢測出的β值和錯誤信息為基礎，對從所述光拾取器的激光光源照射的光的強度進行修正。

7.如權利要求6所述的記錄功率的修正方法，其特征在于：

在每個所述凸區和凹槽中獲得所述β值和所述錯誤信息，而且在每個所述凸區和凹槽中，對從所述光拾取器的激光光源照射的光的強度進行修正。

8.如權利要求6所述的記錄功率的修正方法，其特征在于：

從所述獲得的β值獲得其統計信息，根據該統計信息對從所述光拾取器的激光光源照射的光的強度進行修正。

9.如權利要求8所述的記錄功率的修正方法，其特征在于：

通過得到的β值的平均化處理獲得所述統計信息。

10.如權利要求6所述的記錄功率的修正方法，其特征在于：

通過變更所述β值，對從所述光拾取器的激光光源照射的光的強度進行修正。