[發(fā)明專(zhuān)利]圖案缺陷檢查裝置、圖案缺陷檢查方法及光掩模的制造方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710089091.0 | 申請(qǐng)日: | 2007-03-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101046624A | 公開(kāi)(公告)日: | 2007-10-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 山口升 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | HOYA株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F1/00 | 分類(lèi)號(hào): | G03F1/00;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司: | 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 李貴亮 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖案 缺陷 檢查 裝置 方法 光掩模 制造 | ||
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- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專(zhuān)用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專(zhuān)門(mén)適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過(guò)帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過(guò)電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過(guò)100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





