[發(fā)明專利]聯(lián)機(jī)式涂敷裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710087395.3
• 申請(qǐng)日: 2007-04-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101066543A
• 公開(kāi)（公告）日: 2007-11-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金健佑;吳相澤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 顯示器生產(chǎn)服務(wù)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): B05C5/02
• 分類號(hào): B05C5/02;B05C13/02;B05C11/00
• 代理公司: 北京金信立方知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 黃威;徐金偉

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種聯(lián)機(jī)式涂敷裝置，尤其涉及一種適用于對(duì)基板涂敷照相平版印刷用光致抗蝕劑的涂敷作業(yè)，且可防止形成光致抗蝕劑的不良涂層，并能實(shí)現(xiàn)整個(gè)平版印刷工藝聯(lián)機(jī)化的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置(inline?process?type?coating?apparatus)。

背景技術(shù)

通常，在各種平板顯示器基板的制造工藝中，作為在基板表面形成預(yù)定圖案的方法，使用照相平板印刷(photolithography)方式。

這種方式的步驟如下，首先在基板表面涂敷感光物質(zhì)(sensitivematerial)，之后對(duì)涂有感光物質(zhì)的涂敷表面進(jìn)行曝光、顯影、蝕刻等一系列作業(yè)。

在所述涂敷作業(yè)中，作為感光物質(zhì)通常使用光致抗蝕劑，并將其以一定厚度均勻涂敷在基板表面上。

例如，如果基板表面上的光致抗蝕劑涂層厚于預(yù)定厚度，則可能在進(jìn)行蝕刻作業(yè)時(shí)無(wú)法形成完整的圖案；相反，若薄于預(yù)定厚度，則可能在基板表面出現(xiàn)過(guò)度蝕刻圖案的現(xiàn)象。

為了在基板表面涂敷光致抗蝕劑，主要使用旋轉(zhuǎn)式涂敷裝置來(lái)進(jìn)行涂敷：即從驅(qū)動(dòng)源接收動(dòng)力，并以中心部為基準(zhǔn)可進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)板上裝載基板，在此狀態(tài)下，將光致抗蝕劑滴落在基板表面并利用離心力使其均勻分散及涂敷在基板表面上。

但是，使用所述旋涂裝置，不僅在旋轉(zhuǎn)基板的中心部和外圍部出現(xiàn)轉(zhuǎn)速偏差，而且在光致抗蝕劑擴(kuò)散時(shí)溶劑會(huì)不均勻地蒸發(fā)，因此在涂敷面形成波紋狀層理。

在對(duì)大面積基板進(jìn)行涂敷時(shí)，上述波紋狀層理的產(chǎn)生更為嚴(yán)重，因此在進(jìn)行涂敷作業(yè)時(shí)，不能得到令人滿意的效果。

另外，由于滴落到基板表面上的光致抗蝕劑因離心力的作用而滴落到基板外側(cè)，因而將浪費(fèi)過(guò)多的原料。

為了解決所述問(wèn)題，提出了一種非旋轉(zhuǎn)涂敷方式，即在具有平面裝載面的定盤(pán)上水平放置基板，并通過(guò)在基板上面移動(dòng)具有狹縫式吐出口的涂敷裝置(slit?coater)來(lái)涂敷光致抗蝕劑。

但是，這種涂敷方式，由于在定盤(pán)上放置基板的狀態(tài)下，直接移動(dòng)狹縫式涂敷裝置來(lái)進(jìn)行涂敷作業(yè)，很難連續(xù)進(jìn)行對(duì)多個(gè)基板的涂敷作業(yè)。

尤其是，這種非連續(xù)式涂敷作業(yè)，很難實(shí)現(xiàn)整個(gè)照相平板印刷工序及其設(shè)備的聯(lián)機(jī)化，因此其操作復(fù)雜，需要過(guò)多時(shí)間，從而降低生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明鑒于所述問(wèn)題而作，其目的在于提供一種在輸送基板的同時(shí)可連續(xù)進(jìn)行光致抗蝕劑涂敷作業(yè)，且易于實(shí)現(xiàn)整個(gè)照相平板印刷工藝聯(lián)機(jī)化的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置。

為實(shí)現(xiàn)所述目的，本發(fā)明提供一種聯(lián)機(jī)式涂敷裝置，其包括：作業(yè)平臺(tái)，其提供的作業(yè)面長(zhǎng)度足以在基板輸送過(guò)程中完成涂敷作業(yè)；

懸浮臺(tái)，其通過(guò)氣體噴射壓力使基板水平懸浮在所述作業(yè)面上；

輸送裝置，其用于吸附及固定懸浮狀基板，同時(shí)通過(guò)從驅(qū)動(dòng)源接受的動(dòng)力，沿所述作業(yè)面輸送基板；

狹縫式涂敷裝置，其具有細(xì)長(zhǎng)的切口即吐出口，并通過(guò)所述吐出口對(duì)沿著所述作業(yè)面移動(dòng)的基板涂敷光致抗蝕劑；

吐出調(diào)整裝置，其具有可分離地接觸在所述吐出口端部的平整面，并以與平整面面接觸的狀態(tài)壓住粘接在所述吐出口端部上的光致抗蝕劑，使光致抗蝕劑沿所述吐出口的切開(kāi)方向均勻分布。

采用本發(fā)明，通過(guò)聯(lián)機(jī)方式移動(dòng)基板的同時(shí)，可簡(jiǎn)單地進(jìn)行光致抗蝕劑的涂敷作業(yè)。

尤其，這種在移動(dòng)基板的過(guò)程中進(jìn)行涂敷作業(yè)的聯(lián)機(jī)方式，可與照相平板印刷中各種工序相結(jié)合，能夠很容易地實(shí)現(xiàn)整個(gè)工序及設(shè)備的聯(lián)機(jī)化。

另外，在進(jìn)行涂敷作業(yè)之前，可利用面接觸力，使光致抗蝕劑均勻分散在涂敷裝置的吐出口，從而防止出現(xiàn)光致抗蝕劑的不良涂層，進(jìn)而提高涂敷質(zhì)量。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明實(shí)施例所涉及的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置整體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是圖1中輸送裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3是本發(fā)明實(shí)施例所涉及的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置中基板定位裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4是用于說(shuō)明圖3中具體結(jié)構(gòu)及作用的示意圖。

圖5是圖1所示涂敷裝置的結(jié)構(gòu)放大圖。

圖6表示圖5所示涂敷裝置的作用。

圖7表示光致抗蝕劑涂敷作業(yè)較佳實(shí)施例。

圖8是圖1所示吐出調(diào)整裝置的結(jié)構(gòu)放大圖。

圖9表示圖8所示吐出調(diào)整裝置的作用。

圖10表示在基板上形成光致抗蝕劑的不良涂層。

圖11是本發(fā)明實(shí)施例所涉及的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置中清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖12及圖13表示圖11所示清洗裝置的作用。

圖14及圖15表示圖11所示裝置的另一實(shí)施例。

具體實(shí)施方式