[發(fā)明專利]用于移動(dòng)部件的系統(tǒng)和方法、光刻設(shè)備和器件制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710086300.6 | 申請日: | 2007-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN101038444A | 公開(公告)日: | 2007-09-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | M·F·希爾特杰斯;Y·-T·陶;E·T·范唐克拉爾 | 申請(專利權(quán))人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 李亞非;陳景峻 |
| 地址: | 荷蘭費(fèi)*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 移動(dòng) 部件 系統(tǒng) 方法 光刻 設(shè)備 器件 制造 | ||
【權(quán)利要求書】:
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- 專利分類
G03 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
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