[發明專利]相變型存儲器用濺射靶的制造方法有效
| 申請號： | 200710086279.X | 申請日： | 2002-12-05 |
| 公開（公告）號： | CN101042903A | 公開（公告）日： | 2007-09-26 |
| 發明（設計）人： | 矢作政隆;新藤裕一朗;高見英生 | 申請（專利權）人： | 日礦金屬株式會社 |
| 主分類號： | G11B7/26 | 分類號： | G11B7/26;G11B7/24;C23C14/34 |
| 代理公司： | 中原信達知識產權代理有限責任公司 | 代理人： | 樊衛民;郭國清 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 相變 存儲 器用 濺射 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
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