[發明專利]分離膜的清洗方法和裝置有效
| 申請號: | 200710086090.0 | 申請日: | 2007-03-09 |
| 公開(公告)號: | CN101053775A | 公開(公告)日: | 2007-10-17 |
| 發明(設計)人: | 甘道公一郎;野口基治 | 申請(專利權)人: | 日本礙子株式會社 |
| 主分類號: | B01D65/02 | 分類號: | B01D65/02 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 | 代理人: | 葛松生 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 分離 清洗 方法 裝置 | ||
1.分離膜的清洗方法,其特征在于,使用將次氯酸鈉溶液用膜處理水稀釋后的清洗水來清洗分離膜,監測膜處理水中的氨型氮濃度,以該濃度為指標來調整次氯酸鈉溶液的稀釋倍率,其中,在膜處理水中的氨型氮的濃度高的場合,降低稀釋倍率,提高清洗水中的次氯酸鈉濃度,反之,在膜處理水中的氨型氮的濃度低的場合,提高稀釋倍率,降低清洗水中的次氯酸鈉濃度。
2.權利要求1所述的分離膜的清洗方法,其特征在于,與膜處理水中的氨型氮濃度一起測定總有機碳濃度,在氨型氮濃度基礎上加上總有機碳濃度,調整次氯酸鈉溶液的稀釋倍率。
3.權利要求1所述的分離膜的清洗方法,其特征在于,利用藥液注入泵控制次氯酸鈉的注入量,進行次氯酸鈉溶液的稀釋倍率的調整。
4.權利要求1所述的分離膜的清洗方法,其特征在于,通過調整稀釋倍率,使清洗水中的游離氯濃度保持一定。
5.權利要求1所述的分離膜的清洗方法,其特征在于,經過稀釋的次氯酸鈉濃度為20-1000mg-Cl/L的范圍。
6.分離膜的清洗方法,其特征在于,采用權利要求1所述的方法進行分離膜的清洗,然后將藥液注入泵停機,用膜處理水進行通常的回洗。
7.分離膜的清洗裝置,其特征在于,該清洗裝置具有:
分離膜;將該膜的膜處理水泵送至分離膜的二次側的回洗泵;儲存次氯酸鈉溶液的藥液箱;將該藥液箱中的次氯酸鈉溶液注入回洗水中進行稀釋的藥液注入泵;膜處理水中的氨型氮濃度的監測裝置;以及,以由該監測裝置測定的氨型氮濃度為指標、控制藥液注入泵來調整稀釋倍率的控制裝置,
所述控制裝置具有調整稀釋倍率的功能,在氨型氮濃度高的場合使稀釋倍率降低,反之,在膜處理水中的氨型氮濃度低的場合使稀釋倍率升高。
8.權利要求7所述的分離膜的清洗裝置,其特征在于,分離膜被配置在生物反應槽或凝集攪拌槽的后段。
9.權利要求7所述的分離膜的清洗裝置,其特征在于,分離膜是陶瓷制的整體型的MF膜或者UF膜。
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