[發(fā)明專利]以LIGA工藝制造單層或多層金屬結(jié)構(gòu)體的方法及獲得的結(jié)構(gòu)體有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710085765.X | 申請日： | 2007-03-14 |
| 公開（公告）號： | CN101038440A | 公開（公告）日： | 2007-09-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | C·紹奇 | 申請（專利權(quán)）人： | 島尼爾公司 |
| 主分類號： | G03F7/16 | 分類號： | G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26;C25D5/02;G04B1/14;G04B33/00 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人： | 陳平 |
| 地址： | 瑞士*** | 國省代碼： | 瑞士;CH |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | liga 工藝 制造 單層 多層 金屬結(jié)構(gòu) 方法 獲得 結(jié)構(gòu) | ||
【說明書】：
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- 專利分類
G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
