[發(fā)明專利]微型電子元件及其封裝結(jié)構(gòu)和制造方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710085539.1 | 申請(qǐng)日: | 2007-03-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101261963A | 公開(公告)日: | 2008-09-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔡聰明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 誠佑科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L23/00 | 分類號(hào): | H01L23/00;H01L23/31;H01L21/00;H01L21/56;B81B7/02;B81C1/00;B81C3/00;H03H9/02;H03H3/00 |
| 代理公司: | 隆天國際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 陳晨 |
| 地址: | 中國臺(tái)*** | 國省代碼: | 中國臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 微型 電子元件 及其 封裝 結(jié)構(gòu) 制造 方法 | ||
1.?一種具有密封中空穴的微型電子元件,包含:
基板,至少具有一個(gè)微結(jié)構(gòu);
保護(hù)層,特性均勻,形成于該微結(jié)構(gòu)的上方,且該保護(hù)層以整體熔化的方式,在該微結(jié)構(gòu)的外圍與該基板黏結(jié);以及
密封中空穴,形成于該微結(jié)構(gòu)與該保護(hù)層之間,至少包含一部分該微結(jié)構(gòu)。
2.?如權(quán)利要求1所述的微型電子元件,其中該基板由密封材料構(gòu)成,該密封材料選自于氧化鋁、玻璃、石英、鉭酸鋰、鈮酸鋰以及硅的群組。
3.?如權(quán)利要求1所述的微型電子元件,其中該微結(jié)構(gòu)選自于微電子電路、微振動(dòng)結(jié)構(gòu)、微機(jī)電結(jié)構(gòu)、以及微放電結(jié)構(gòu)的群組。
4.?如權(quán)利要求1所述的微型電子元件,其中該保護(hù)層系電絕緣,且其成份包含玻璃。
5.?如權(quán)利要求1所述的微型電子元件,其中該保護(hù)層至少一部分經(jīng)由至少一個(gè)中間層,間接與該基板黏結(jié)。
6.?如權(quán)利要求1所述的微型電子元件,其中該密封中空穴包含氣體,該氣體的壓力小于1個(gè)大氣壓。
7.?如權(quán)利要求6所述的微型電子元件,其中該氣體選自于氮?dú)狻鍤狻⒛蕷狻⒑庖约皻錃獾娜航M的至少其中之一。
8.?如權(quán)利要求1所述的微型電子元件,該微型電子元件是以芯片級(jí)封裝。
9.?如權(quán)利要求8所述的微型電子元件,其中該基板至少有一個(gè)側(cè)面為電絕緣。
10.?如權(quán)利要求8所述的微型電子元件,進(jìn)一步包含至少一個(gè)末端墊,配置在該基板上,且電連接該微結(jié)構(gòu)至該基板的邊緣。
11.?如權(quán)利要求8所述的微型電子元件,進(jìn)一步包含至少一端電極,選擇性地形成于該保護(hù)層與該基板的外表,且在該基板的邊緣與該微結(jié)構(gòu)電連接。
12.?一種微型電子元件的封裝結(jié)構(gòu),包含:
基板,至少具有一個(gè)微結(jié)構(gòu);
保護(hù)層,特性均勻,形成于該微結(jié)構(gòu)的上方,且該保護(hù)層以整體同時(shí)固化的方式,在該微結(jié)構(gòu)的外圍與該基板黏結(jié);
中空穴,形成在該微結(jié)構(gòu)與該保護(hù)層之間,至少包含一部分該微結(jié)構(gòu),且該中空穴至少有一個(gè)出口,通過該保護(hù)層;以及
至少一個(gè)封口栓,封住該中空穴的所述至少一個(gè)出口。
13.?如權(quán)利要求12所述的封裝結(jié)構(gòu),其中該保護(hù)層的成份含有玻璃或高分子材料。
14.?如權(quán)利要求12所述的封裝結(jié)構(gòu),其中該封口栓的成份含有玻璃或高分子材料。
15.?如權(quán)利要求12所述的封裝結(jié)構(gòu),其中該封口栓的熔點(diǎn)低于該保護(hù)層的熔點(diǎn),且該封口栓在特定氣體環(huán)境下熔化,冷卻后固化并密封該特定氣體于該中空穴內(nèi)。
16.?一種具有中空穴的微型電子元件的制造方法,包含下列步驟:
(a)提供基板;
(b)形成犧牲層于該基板的預(yù)定區(qū)域上;
(c)涂布保護(hù)層于該犧牲層的上方,以覆蓋該犧牲層;
(d)加熱去除該犧牲層,致使該預(yù)定區(qū)域與該保護(hù)層之間形成中空穴;以及
(e)熔化整個(gè)該保護(hù)層,該保護(hù)層冷卻后固化,因此在該預(yù)定區(qū)域的外圍與該基板黏結(jié)。
17.?如權(quán)利要求16所述的方法,其中該預(yù)定區(qū)域至少具有一個(gè)微結(jié)構(gòu),且該微結(jié)構(gòu)選自于微電子電路、微振動(dòng)結(jié)構(gòu)、微機(jī)電結(jié)構(gòu)、以及微放電結(jié)構(gòu)的群組。
18.?如權(quán)利要求16所述的方法,其中該犧牲層為高分子材料,步驟(d)是在含有氧氣的環(huán)境下加熱,致使該犧牲層與氧氣作用而完全揮發(fā)消失,加熱溫度低于該保護(hù)層的熔點(diǎn)。
19.?如權(quán)利要求16所述的方法,其中該保護(hù)層的成份包含玻璃,該保護(hù)層在熔化前為粉末顆粒型態(tài),熔化與冷卻后成為致密的固體組織。
20.?如權(quán)利要求16所述的方法,其中該保護(hù)層在特定氣體環(huán)境下熔化,且冷卻后密封該特定氣體在該中空穴內(nèi)。
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