[發(fā)明專(zhuān)利]利用摻雜金屬后的硫族化物材料的集成電路器件和制造有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710085418.7 | 申請(qǐng)日： | 2002-08-30 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN101005114A | 公開(kāi)（公告）日： | 2007-07-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | J·李;A·麥克特爾 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 微米技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | H01L45/00 | 分類(lèi)號(hào)： | H01L45/00;H01L27/24;C23C14/54;C23C14/06 |
| 代理公司： | 中國(guó)專(zhuān)利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 周鐵;黃可峻 |
| 地址： | 美國(guó)愛(ài)*** | 國(guó)省代碼： | 美國(guó);US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 利用 摻雜 金屬 硫族化物 材料 集成電路 器件 制造 | ||
【權(quán)利要求書(shū)】：
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