[發明專利]拋光表面

無效

• 申請號: 200710085240.6
• 申請日: 2007-02-15
• 公開（公告）號: CN101058169A
• 公開（公告）日: 2007-10-24
• 發明（設計）人: 本杰明·A·邦納;彼得·麥克雷諾;格雷戈里·E·門克;格沛拉克里西那·B·普拉布;阿南德·N·萊爾;加倫·C·勒溫;史蒂文·M·蘇尼加;埃里克·S·朗登;亨利·H·奧
• 申請（專利權）人: 應用材料股份有限公司
• 主分類號: B24D11/00
• 分類號: B24D11/00;B24D11/02;B24B29/00;B24B41/047;B24D18/00;H01L21/304
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司
• 代理人: 徐金國;梁揮

1、一種拋光物，包括：

具有線性透明部分的線性拋光片，其中所述線性透明部分由在約2.5英寸的半徑范圍分布而不會破裂的彈性材料形成。

2、根據權利要求1所述的拋光物，其特征在于，所述拋光片的上表面與所述線性透明部分的上表面為平面。

3、根據權利要求1所述的拋光物，其特征在于，所述線性透明部分由聚亞安酯材料形成。

4、根據權利要求1所述的拋光物，其特征在于，所述材料在肖氏硬度D標尺上具有約60的硬度。

5、根據權利要求1所述的拋光物，其特征在于，所述材料具有約50×10^-3英寸的厚度。

6、根據權利要求1所述的拋光物，其特征在于，所述線性拋光片的上表面由足夠耐受金剛石涂層制具的制造的材料形成。

7、根據權利要求1所述的拋光物，其特征在于，所述線性拋光片的上表面由非固定研磨劑的拋光材料形成。

8、根據權利要求1所述的拋光物，其特征在于，所述線性拋光片包括頂層和底層。

9、根據權利要求8所述的線性拋光片，其特征在于，所述線性拋光片還包括在所述頂層和底層之間的粘結層。

10、根據權利要求1所述的拋光物，其特征在于，所述拋光片包括拋光層并且所述透明部分成型于所述拋光層。

11、一種拋光倉，包括：

兩個輥，送料輥和卷取輥；以及

權利要求1所述的線性拋光片，其中所述線性拋光片的第一端纏繞所述送料輥并且所述線性拋光片的第二端纏繞所述卷取輥。

12、一種拋光裝置，包括：

可旋轉壓盤；

驅動機構，用于以線性方向逐漸推進具有拋光表面的拋光片通過所述壓盤；

在所述壓盤上的子墊，用于支撐所述拋光片，所述子墊具有形成于其中的凹槽；以及

真空源，其與所述子墊的凹槽相連接并且配置用于提供足以將部分所述拋光片拉入所述子墊的凹槽中的真空，以在所述拋光表面形成凹槽。

13、根據權利要求12所述的拋光裝置，其特征在于，所述子墊包括多個凹槽。

14、根據權利要求13所述的拋光裝置，其特征在于，所述凹槽形成為同心圓形、同心橢圓形或螺旋形。

15、根據權利要求13所述的拋光裝置，其特征在于，所述凹槽形成為平行線或正交線。

16、根據權利要求12所述的拋光裝置，其特征在于，還包括所述拋光片。

17、根據權利要求16所述的拋光裝置，其特征在于，所述拋光片在拋光表面中具有多個凹槽。

18、根據權利要求17所述的拋光裝置，其特征在于，所述拋光片具有寬度和長度，其中所述長度大于所述寬度，并且形成在所述拋光片中的所述多個凹槽包括與所述拋光片的所述長度垂直延伸的凹槽。

19、根據權利要求18所述的拋光裝置，其特征在于，形成在所述拋光片中的所述多個凹槽包括與所述拋光片的所述長度平行延伸的凹槽。

20、根據權利要求16所述的拋光裝置，其特征在于，所述子墊比所述拋光片更可壓縮。

21、根據權利要求12所述的拋光裝置，其特征在于，所述子墊可壓縮。

22、一種操作拋光裝置的方法，包括：

在具有形成于其中的凹槽的子墊上支撐具有拋光表面的拋光片；以及

提供足以將部分所述拋光片拉入所述子墊的凹槽中的真空，以在所述拋光表面形成凹槽。

23、根據權利要求22所述的方法，其特征在于，還包括旋轉支撐所述拋光片的壓盤以旋轉所述拋光片。

24、根據權利要求22所述的方法，其特征在于，還包括使襯底與所述拋光片接觸并對該襯底拋光。

25、根據權利要求22所述的方法，其特征在于，還包括使所述拋光片與所述壓盤脫離，并且以線性方法逐漸推進所述拋光片通過所述壓盤的上表面。