[發(fā)明專利]抗眩層有效
申請?zhí)枺?/td> | 200710080329.3 | 申請日: | 2007-03-02 |
公開(公告)號: | CN101256249A | 公開(公告)日: | 2008-09-03 |
發(fā)明(設計)人: | 黃彥馀;林振吉;李娟如 | 申請(專利權)人: | 中華映管股份有限公司 |
主分類號: | G02B5/30 | 分類號: | G02B5/30 |
代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 周長興 |
地址: | 臺灣省*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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摘要: | |||
搜索關鍵詞: | 抗眩層 | ||
技術領域
本發(fā)明是關于一種偏光板,尤其是指一種以團聯(lián)共聚物作為抗眩層的偏光板。
背景技術
偏光板具有將入射光偏極化的功能。基本偏光板的結構,主要是由聚乙烯醇(polyvinyl?alcohol,PVA)高分子摻雜碘離子(I3-或I5-),經(jīng)延伸后可作為光線的吸收軸,而與PVA分子延伸方向垂直的部分則作為光線的透過軸。當應用于TFT-LCD的面板中,則可由液晶分子光軸方向搭配上下偏光板的配置(吸收軸平行或正交),達到控制背光源通過或阻絕的目的,以此控制面板為常黑(normally?black)或常亮(normally?white)的顯示模式。
目前公知的偏光板結構如圖1所示,由外表面到內(nèi)表面依序為:表面保護膜10,抗眩層(antiglare)或硬膜層(hard?coat)20,接著于二層作為保護層的三醋酸纖維素薄膜(Triacetate?Cellulose,TAC)30,31中,夾置一層聚乙烯醇40,然后是黏著層50與離形層60。硬膜層20的表面處理主要為了防止偏光板的磨耗,但是此表面處理卻反而造成面板的反光,而影響視覺舒適度。因此在進行硬膜形成時,會同時加入抗眩粒子,由抗眩粒子使背光源均勻的散射出面板,也可避免因外界光源造成的反光效應。
公知在偏光板中進行表面處理的流程,主要是將高分子單體或寡聚物,以及抗眩粒子,一起溶于溶劑中形成一膠體溶液。接著以旋轉涂布的方式沉積于一偏光板上。待溶劑揮發(fā)完全后,照射UV光,使高分子單體或寡聚物進行聚合反應或交聯(lián)反應,即形成抗眩層的制作。抗眩粒子的存在可使偏光板形成凹凸不平的表面,加上高分子單體與抗眩粒子對于光線散射能力的不同,故能達到使光線散射的目的,而具抗眩功能。
然而,公知偏光板因抗眩粒子的存在,使得抗眩層的厚度約達5-20μm,而在近來普遍要求偏光板薄型化的訴求下,必須更縮小抗眩粒子的尺寸,才能達到薄型化,但這相對提高抗眩粒子制備工藝的難度。此外,公知方法中,抗眩粒子的分散屬隨機,要控制分布均勻度也有其難度。若抗眩粒子在抗眩層中分布不均,則容易造成面板部分區(qū)域對于光線散射能力強,部分區(qū)域對于光線散射能力弱的現(xiàn)象,造成對比的分布均一性較差。因此,公知抗眩層的制作方法已無法符合目前的要求。
團聯(lián)共聚物是將數(shù)個不同化學結構的分子鏈,以共價鍵形式連結在一起。如同高分子摻合體一樣,當各分子間鏈段不兼容時,便會產(chǎn)生相分離。但因各分子鏈段被共價鍵連結在一起,因此相分離程度被限制在納米級尺度,此稱為微相分離(microphase?separation)。
隨著分子鏈的長度、體積分率以及作用力的改變,微相分離可產(chǎn)生各種具長程規(guī)則性(long-range?order)的型態(tài),最常見的微相分離型態(tài)有:體心立方堆積的圓球(body-centered?cubic?packed?spheres)、六角堆積的圓柱(hexagonally?packed?cylinders)、規(guī)則雙連續(xù)相雙鉆石結構(gyroid)及層狀(lamellae)排列結構等。同時,文獻亦已揭示,將團聯(lián)共聚物以薄膜形式(厚度約100-200nm)呈現(xiàn)時,在空間上均勻且連續(xù)的規(guī)則結構仍能維持。
由于團聯(lián)共聚物可自我聚集成具有納米尺寸、及空間上均勻且連續(xù)的規(guī)則結構,加上各不同分子鏈間對于光線有不同的折射率,因此對于應用于偏光板上作為抗眩層有其發(fā)展?jié)摿Α?/p>
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種抗眩層,以克服公知技術中存在的缺陷,
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供的抗眩層,具有一如下式I的團聯(lián)共聚物:
-Am-Bn-???式I;
其中,該式I中,m與n分別為一大于1的整數(shù),且A與B分別選自下列結構單元:
以及
其中,R1、R2、R3、與R4分別為氫、或C1-C5的烷基;R5為C1-C5的烷基、R6為氫、苯基、取代或未取代的芳基、雜芳基、環(huán)基、或雜環(huán)基;且x為1-10的整數(shù)。
所述的抗眩層,其中,該結構式I的結構單元中,R1、R2、R3、與R4為氫或甲基。
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