[發(fā)明專利]防漏構(gòu)件及清潔裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710080003.0
• 申請(qǐng)日: 2007-02-28
• 公開（公告）號(hào): CN101169608A
• 公開（公告）日: 2008-04-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小田智之;村瀬幸司;上田博之;竹中秀典;堀內(nèi)伸浩;保母純平
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京瓷美達(dá)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03G15/02
• 分類號(hào): G03G15/02;G03G15/08;G03G15/16;G03G21/00
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 陳紅

1.一種防漏構(gòu)件(264)，用于安裝在清潔圖像形成裝置旋轉(zhuǎn)體表面的清潔裝置上，以防止顯影劑從所述清潔構(gòu)件的兩側(cè)泄漏，包括：

接觸部(264a)，由彈性材料所構(gòu)成，所述接觸部包括第一抵接部(264c1)，所述第一抵接部(264c1)通過與所述旋轉(zhuǎn)體表面保持線接觸以防止顯影劑通過第一抵接部；

移動(dòng)限制部(264b)，連接在所述接觸部(264a)，用于限制所述接觸部的移動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防漏構(gòu)件，其特征在于：

所述接觸部還包括第二抵接部(264c2)，所述第二抵接部(264c2)與第一抵接部(264c1)平行設(shè)置在同一表面上，并可與所述旋轉(zhuǎn)體表面保持線接觸。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防漏構(gòu)件，其特征在于：

所述接觸部(264a)還包括槽(264e)，所述槽(264e)形成在與設(shè)有第一抵接部(264c1)面相對(duì)的面上并沿所述第一抵接部(264c1)的長(zhǎng)度方向延伸。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防漏構(gòu)件，其特征在于：

所述移動(dòng)限制部(264b)與所述接觸部(264a)一體形成，用于限制所述接觸部(264a)隨旋轉(zhuǎn)體的轉(zhuǎn)動(dòng)而移動(dòng)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的防漏構(gòu)件，其特征在于：

所述移動(dòng)限制部(264b)包括配合連接部(264f)，用于與清潔裝置框架相配合連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的防漏構(gòu)件，其特征在于：

所述移動(dòng)限制部(264b)的嵌合部為突起部(264f)，用于嵌合到形成在所述框架(263)上的插孔(263a)。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的防漏構(gòu)件，其特征在于：

所述接觸部(264a)中與所述旋轉(zhuǎn)體表面接觸的面(264c1，264c2)的曲率，與所述旋轉(zhuǎn)體表面的曲率相同。

8.一種清潔裝置，用于清潔圖像形成裝置的旋轉(zhuǎn)體表面，包括：

框架(263)，用于設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)體附近；

板狀刮板構(gòu)件(262)，安裝在所述框架(263)上，所述刮板構(gòu)件(262)設(shè)置成沿旋轉(zhuǎn)體軸向延伸且其頂端與旋轉(zhuǎn)體表面相接觸；

上述權(quán)利要求1-7任意一項(xiàng)所述的防漏構(gòu)件(264)，安裝在所述刮板構(gòu)件(262)的兩側(cè)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的清潔裝置，其特征在于：

所述防漏構(gòu)件(264)以發(fā)生彈性變形的狀態(tài)下被設(shè)置于所述刮板構(gòu)件(262)與所述框架(263)之間，所述防漏構(gòu)件(264)的兩端(264x，264y)分別與所述刮板構(gòu)件(262)及所述框架(263)保持面接觸。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的清潔裝置，其特征在于：

還包括推壓機(jī)構(gòu)(265)，向所述旋轉(zhuǎn)體側(cè)推壓所述防漏構(gòu)件(264)。