[發明專利]顯示基板及其制造方法以及具有該顯示基板的顯示裝置

無效

• 申請號: 200710079815.3
• 申請日: 2007-02-14
• 公開（公告）號: CN101071242A
• 公開（公告）日: 2007-11-14
• 發明（設計）人: 柳春基
• 申請（專利權）人: 三星電子株式會社
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 章社杲;吳貴明

1.一種顯示基板，包括：

柵極金屬圖案，包括柵極線、開關元件的柵電極、和第一存儲電極；

第一柵極絕緣層，覆蓋所述柵電極和所述第一存儲電極中的至少一個；

第二柵極絕緣層，被圖案化，以露出所述第一存儲電極上的所述第一柵極絕緣層；

源極金屬圖案，包括第二存儲電極，所述第二存儲電極與源極線和所述第一存儲電極上的所述第一柵極絕緣層接觸；以及

像素電極，電連接至所述開關元件。

2.根據權利要求1所述的顯示基板，其中，所述第一柵極絕緣層具有500至1200的厚度。

3.根據權利要求2所述的顯示基板，其中，所述第一柵極絕緣層包含二氧化硅。

4.根據權利要求2所述的顯示基板，其中，所述第二柵極絕緣層包含氮化硅。

5.根據權利要求2所述的顯示基板，其中，像素部由相鄰的所述柵極線和相鄰的所述源極線限定，并且所述第一存儲電極的面積是所述像素部的面積的3％至10％。

6.根據權利要求1所述的顯示基板，進一步包括向所述柵極線施加柵極信號的柵極焊盤部。

7.根據權利要求6所述的顯示基板，其中，所述柵極焊盤部包括連接圖案和焊盤圖案，所述連接圖案由與所述源極線相同的層形成，以接觸所述柵極線的端部，而所述焊盤圖案由與所述像素電極相同的層形成，以接觸所述連接圖案。

8.一種用于制造顯示基板的方法，所述方法包括：

在底基板上由柵極金屬層形成柵極金屬圖案，所述柵極金屬圖案包括柵極線、開關元件的柵電極、和第一存儲電極；

在具有所述柵極金屬圖案的所述底基板上形成第一柵極絕緣層；

對所述第一柵極絕緣層進行圖案化，以覆蓋所述柵電極和所述第一存儲電極中的至少一個；

形成第二柵極絕緣層，所述第二柵極絕緣層形成在具有已被圖案化的所述第一柵極絕緣層的所述底基板上，并對所述第二柵極絕緣層進行圖案化，以露出所述第一存儲電極上的第一柵極絕緣層；

形成第二存儲電極，所述第二存儲電極由源極金屬層形成，以便與源極線和所述第一存儲電極上的所述第一柵極絕緣層接觸，所述第一柵極絕緣層通過所述第二柵極絕緣層而露出；以及

形成像素電極，所述像素電極由透明導電層形成，以電連接至所述開關元件。

9.根據權利要求8所述的方法，進一步包括形成向所述柵極線施加柵極信號的柵極焊盤部。

10.根據權利要求9所述的方法，其中，形成所述柵極焊盤部的步驟包括：

對所述第二柵極絕緣層圖案化，以露出所述柵極線的端部；

由所述源極金屬層形成連接圖案，以接觸所述端部；以及

由所述透明導電層形成焊盤圖案，以接觸所述連接圖案。

11.根據權利要求8所述的方法，其中，所述第一柵極絕緣層和所述第二柵極絕緣層具有不同的蝕刻選擇比率。

12.根據權利要求8所述的方法，其中，所述第一柵極絕緣層具有500至1200的厚度。

13.根據權利要求12所述的方法，其中，所述第一柵極絕緣層包含二氧化硅。

14.根據權利要求13所述的方法，其中，所述第二柵極絕緣層包含氮化硅。

15.一種顯示裝置，包括：

顯示基板，其包括第一柵極絕緣層，所述第一柵極絕緣層被圖案化，以覆蓋開關電極的柵電極和第一存儲電極中的至少一個；

第二柵極絕緣層，其被圖案化，以露出所述第一存儲電極上的所述第一柵極絕緣層；

第二存儲電極，其與所述第一存儲電極上的所述第一柵極絕緣層接觸；

像素電極，電連接至所述開關元件；

相對基板，與所述顯示基板結合在一起，以容納液晶層；

以及

共用電極，面向所述像素電極，形成在所述相對基板上。

16.根據權利要求15所述的顯示裝置，其中，所述第一柵極絕緣層具有500至1200的厚度；

17.根據權利要求15所述的顯示裝置，其中，所述顯示基板進一步包括電連接至所述柵電極的柵極線以及向所述柵極線施加柵極信號的柵極焊盤部，以及

其中，所述柵極焊盤部包括與所述柵極線的端部接觸的連接圖案以及與所述連接圖案接觸的焊盤圖案。